高均一性と高スループットの両立が可能なバッチ式イオンミリング装置のご紹介です
『IM-580シリーズ』は、大型基板および多数枚数処理に適した バッチ式イオンビームミリング装置です。 最大φ580のバケット型イオン源。 角形状基板など異形基板対応、異形基板混合対応、基板サイズ兼用 できます。 お客様の用途に合わせたサンプル処理を初回無償で提供します。 ウェーハサイズ、処理枚数などについては当社までお問い合わせください。 【特長】 ■最大φ580のバケット型イオン源 ■高均一性と高スループットの両立が可能 ■エッチング高レートと低レートの制御が可能 ■ウェーハ（基板）自公転ステージ ■角形状基板など異形基板対応、異形基板混合対応、基板サイズ兼用可能 ■フィラメントレスμ波ニュートラライザ（オプション） ※詳しくは外部リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【ラインアップ】 ■IM-580 ■IML-580-LL ※詳しくは外部リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■磁気ヘッド用微細加工 ■プリンターヘッドなどの微細加工など ※詳しくは外部リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
企業情報
企業理念は、あらゆるステークホルダーから「信頼」される企業を目指し、ハイテク・ソリューションによる「価値創造」を基本とした事業活動を通じ、社会の進歩発展に貢献することであります。 現在、「電子デバイスシステム」「ファインテックシステム」「科学・医用システム」「産業・ITシステム」「先端産業部材」の5つのセグメントで、グローバルな事業展開を行っており、また「商社機能」「メーカー機能」を有機的に統合し先端テクノロジー企業として、お客様のご要望にお応えしてゆきます。