サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます
『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統 MFC仕様 ■φ300 x 300H チャンバーサイズ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■耐熱、断熱セラミック研究用途 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
株式会社和泉テックは、理化学機器の販売を主とし、設計、製造も行う 物作りのできる商社として活動しています。 特に工業系の新素材、環境、科学、物理、電気、建築、土木関係に 関した物作りが得意です。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。