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研究開発用マルチレンジスペクトロメータ『INVENIO X』

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最終更新日:2024年12月02日

ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部
ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部
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次世代のINVENIOプラットフォームを完成させ、先端研究開発用FT-IRの新たなスタンダードを確立

『INVENIO X』は、次世代のINVENIOプラットフォームを完成させ、 先端研究開発用FT-IRの新たなスタンダードを確立します。 「DigiTect」検出器ならびに「Transit」第2試料室を併用することで、 最大7台の検出器を同時に搭載し、それぞれをソフトウェアから自由に 制御することができます。 これにより、遠赤外から可視/紫外までの幅広い領域をカバーすることが 可能となります。 【特長】 ■新設計INTEGRAL干渉計 ■5台の検出器に対応する革新的MultiTectテクノロジー ■ユーザーによる交換が可能なDigiTect検出器スロット ■専用検出器搭載、簡易透過/反射測定用Transitチャンネル第2試料室 ■24ビットダイナミックレンジ・デュアルチャンネル ADC、 フルデジタル信号処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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研究開発用マルチレンジスペクトロメータ『INVENIO X』

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基本情報

【その他特長】 ■遠赤外、近赤外、可視 / 紫外領域への拡張、フィールドアップグレード対応 ■INTEGRAL干渉計とMultiTectテクノロジーにより遠赤外から可視/紫外領域までのマルチスペクトル測定を完全自動化 ■高度な測定と解析に対応するOPUSソフトウェア ■さらに快適な操作環境を実現するOPUS-TOUCH R&Dソフトウェア/タッチパネルPCオプション ■ソフトウェア制御式、光入出力ポート(出力X3、入力X2) ■各種変調測定と時間分解測定を実現するラピッド、スロー、ステップスキャンオプション ■VERTEX、INVENIO 用のすべてのアクセサリおよび拡張モジュールとの互換性を完全継承 ■試料室バイパス/ダイレクトエミッション光路オプション ■簡単操作で脱着が可能な試料室カバー(カスタマイズ可能) ■乾燥密閉型光学ベンチ(パージ可能) ■LEDライトバーによる洗練されたシステムステータス表示 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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オプティクス事業は1960年、ブルカーグループの赤外分光分析部門として、ドイツにおいてスタートしました。高い設計思想をベースに開発された製品群は、生産管理や品質保証を目的として日常的に利用される専用機から、先端材料の研究開発において威力を発揮するリサーチモデルまで多岐に渡ります。ドイツ・エットリンゲンを開発製造の拠点として、グローバルな販売・サービスネットワークを通じてお客様の様々なニーズにお応えしています。

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