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最終更新日:2023年04月04日

株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
  • 公式サイト

多彩な薬液に実績あり!低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っているからです

枚葉式でウエハ上に現像液を液盛りして現像を行います。 ディップ方式と違い、1枚1枚現像を行うので、プロセスの再現性が非常に高いです。 薬液使用量を最適化することにより、現像液使用量の削減に繋がります。 液盛り方法もシャワータイプからストレートノズルなどご要望にお応えできます。 静止現像中の揺動機能も搭載! (低回転と停止を繰り返して液を動かします) 枚葉式で現像、、リンス、ベーク、クーリング機能を搭載。 お客様のニーズと生産量に合わせて、設計から製造・販売いたします。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■現像結果の高い再現性 ■薬液使用量の低減 ■自動ウエハサイズ認識 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ■生産量に合わせた設計が可能 デモ設備を常設しておりますので、デモのご検討をお願いします!

    レジスト装置
装置正面.jpg

静止現像式(パドル)自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)

装置正面.jpg
装置正面.jpg
  • 関連リンク - http://www.asap-semi.co.jp/coaters/

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基本情報

【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン現像ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■現像ノズル:1組/CUP ■リンスノズル:1組/CUP ■ベークユニット:4組(Max200℃) ■クーリングユニット:2組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1400×1100×1800(Φ4"本体)           400×900×1800(薬液供給+電源BOX) ■ウェハ搬送ロボット:1組(ダブルアームクリーンロボット) その他オプション多数! ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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※4~5ヶ月(通常)、状況によって変動しますので、お気軽にお問い合わせください。

用途/実績例

パワーデバイス、SAWフィルター、LED、LD、通信関係の分野での販売実績がございます。

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フォトレジストの塗布・露光・現像装置をメインとし、両面露光装置等、フォトリソグラフィープロセス全般および関連プロセス装置の設計・製造・販売を行っております。 特に、凹凸やV溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットNMPによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。 その他、ポリイミド・PBF・OCD・WAX等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。 お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。 また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。

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