Various implanter line-up for your various requests
We can perform ion implantation processing under various conditions according to customer requirements, with a wide variety of samples from chips to 12-inch wafers. The implantation conditions range from 10 to 8,000 KeV, from room temperature to high-temperature heating (600 ° C), and about 60 types of ionic species can be handled.
この製品へのお問い合わせ
基本情報
Please feel free to contact us about implantation service.
価格情報
****** Please feel free to contact us about fee of implantation service.
納期
※Please feel free to contact us about implantation service.
用途／実績例
We support many universities, institutes and corporates for implantation projects.
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
イオンテクノセンターは「イオン注入」「物理分析」および研究開発におけるコンサルティングや技術開発サポートなどを行うプロフェッショナル集団です。 最先端の技術と設備を備えた時代の求める創造的ラボラトリーとして企業や大学研究者の方々の良きパートナーをめざしています。