簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送系が無い低価格手動マスクアライナー。
当製品は、手動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を露光ステージにセットし、露光を行う装置です。 ウエハを露光ステージへ手動でセッティング。 面倒なフォトマスクとウエハの平行調整やギャップ調整は自動で行います。 また，超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能搭載 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■多品種少量生産、研究、開発用途に好適 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現 ■超精密UVWステージ搭載 ■特殊基板等のオーダーメイド可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【主な仕様】 ■マスクサイズ：□3"～□7" ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ6",角基板 □2"～4" ■露光光源：超高圧水銀灯(250W，500W) UV-LED光源も対応可能 ■アライメント動作：オートアライメント⇔マニュアルアライメント切換え可能 ■搬送方法：ウエハを露光ステージへ手動でセット ■平行、ギャップ調整：自動 ■装置サイズ：(例)1200×1050×2100(本体) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
※5～6ヶ月（通常）、状況によって変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
フォトレジストの塗布・露光・現像装置をメインとし、両面露光装置等、フォトリソグラフィープロセス全般および関連プロセス装置の設計・製造・販売を行っております。 特に、凹凸やＶ溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットＮＭＰによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。 その他、ポリイミド・ＰＢＦ・ＯＣＤ・ＷＡＸ等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。 お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。 また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。