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マスクレスアライナー『MLA300』

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最終更新日:2020年05月22日

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

MLA300は、研究開発アプリケーション、ラピッドプロトタイピング、および少量から中量生産の領域では既に標準となっているマスクレスアライナーの工業生産バージョンです。MLA300は、生産工場で期待される高スループットと高可用性を維持しながら、2 µmのラインアンドスペースの高解像度を実現します。 ワークフローを簡素化するための自動化に対応するために、ウェーハロボットとロードポート、および生産環境用に特別に設計されたソフトウェアを備えています。

    ステッパーフォトマスクその他半導体製造装置
MLA300.jpg

マスクレスアライナー『MLA300』

MLA300.jpg
MLA300.jpg
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基本情報

最大露光面積:300 mm x 300 mm 最小フィーチャサイズ:1.5μm 最小ラインアンドスペース:2 µm 最大書き込み速度:5000 mm2 / min(@405 nm、1モジュール時) リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可

価格帯

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用途/実績例

センサー、センサーIC、MEMSデバイス、ディスクリート電子コンポーネント、アナログおよびデジタルIC、ASIC、パワーエレクトロニクス、OLEDディスプレイ、および高度なパッケージングアプリケーション向け

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マスクレスアライナー『MLA300』

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高精度レーザー描画装置『DWL 2000 GS シリーズ』

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ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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光学機器

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ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は、レーザー直接描画装置やマスク描画装置の開発と製造を行う独国ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニック社の日本法人です。日本国内にてレーザー直接描画装置の販売及び技術サービスを行っています。レーザー描画装置やマスクレスアライナーなどの製品を数多くラインナップしています。レーザーリソグラフィーのことなら、是非当社にご相談ください。

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