ナノパターンの高速・高精度計測が可能なフォトマスク用CD-SEM
『Zシリーズ』は、フォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術、 チャージ対策技術をさらに進化させてsub-10 nm先端デバイス用 マスク向けに開発したフォトマスク用CD-SEMです。 EUVマスク、NIL用Qzモールド、PETフィルムモールド、DSAフィルムなど 様々なサンプルに対応しております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■収差補正技術をさらに改良し、高SNRイメージを取得 ■低真空技術によるチャージフリーSEM画像を取得、高精度計測が可能 ■多彩なアプリケーション （多点計測・輪郭抽出・2D測定・欠陥レビュー・3D表示） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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企業情報
当社では、小型化及び高機能・高性能化が進むパソコンやスマートフォン （スマホ）、デジタル家電などの機器に不可欠な半導体が、設計通りに 正しく作られているかを検査・測定する装置を主力製品としています。 急速な進化をつづける半導体およびナノテクノロジー産業。 当社はその一翼を担うべく、研究開発、製造・販売、保守・メンテナンスの 連携を強化し、適切なサービスを提供してまいります。