微細化する半導体プロセスに対応！次世代型角型ゲートバルブのご紹介
『True L-Motion Gate Valve』は、低振動の次世代型角型ゲートバルブです。 OPEN/CLOSE動作時の低振動化のほか、新機構により低発塵化を 実現しました。 オプションにより、シール材質の変更や表面処理の追加が可能です。 【特長】 ■微細化する半導体プロセスに対応 ■低振動：OPEN/CLOSE動作時の低振動化を実現 ■低パーティクル：新機構により低発塵化を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【オプション】 ■シール材質の変更 ■表面処理の追加 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
《IT・ハイテク産業の発展に貢献します。》 当社は創立以来、各分野において、一貫して特殊バルブの開発・生産を行ってまいりました。 おかげさまでＩＴ分野、特に半導体、ＦＰＤ（液晶、有機ＥＬパネル）、薄膜ソーラーパネル、 ハードディスクの製造に使用される当社の真空バルブはクリーンなバルブとしてユーザーの皆様から厚いご信頼をいただき、 幅広く採用されるまでに成長いたしました。 また当社は、日本で唯一のラプチャーディスクメーカーとして多くの実績を持ち、お客様から高い評価を得ています。 これからも、より高性能な商品の開発、顧客および市場のニーズに応えられる商品アイテムの充実、国内・海外での製造・販売、 アフターサービス体制の一層の強化など産業の発展に寄与できるようにグローバルに取り組んでまいります。