十分に競争できるコスト！広い範囲で光工学表面弾性波フィルターなどの分野などをカバー可能
アイスモス・テクノロジーは薄膜のSOIウエハーを<1um以下の デバイスレイヤーにて供給いたします。 20年以上のSOI製造の経験により、アイスモスはRFアプリケーションに 使われる厚膜SOIと同様の高い品質の製品をご提供可能。 シリコンウエハーや熱酸化膜など広い範囲で、アイスモスの薄膜SOI ウエハーは光工学表面弾性波フィルターなどの分野などをカバーできます。 【特長】 ■シリコンウエハーや熱酸化膜など広い範囲で光工学表面弾性波 フィルターなどの分野などをカバー可能 ■6シグマの統計学的管理手法に基づくプロセス管理で常に継続的改善を 進めながら、アイスモスは世界クラスの製品品質を提供 ■十分に競争できるコストと柔軟な対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【最終市場】 ■テレコミニケーション ■一般消費者向け ■電源 ■医療 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■RFフィルター ■光エレクトロニクス ■画像検出 ■ワイヤレスコネクション ■フレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス ■RF MEMS ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
当社は、電源に高いパフォーマンスを発揮する高耐圧のパワーMOSFETおよびMEMS技術プロセス、高度な技術基盤ウエハーやSOI（シリコンオンインシュレーター）、貼り付けシリコン基板を、高い費用対効果で提供するベストインクラスのサプライヤーとして2004年に設立いたしました。(米国本社、英国製造拠点、東京R＆D拠点） 革新的な深いトレンチエッチを持つMEMS構造の高耐圧スーパージャンクションMOSFETを、シンプル且つ低コストプロセスで開発、実現しました。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。