半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電位差自動滴定装置を使って品質管理を自動化
酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。 メッキ浴 鍍金浴
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基本情報
メトロームの自動滴定装置を使用して酸性銅めっき浴の塩化物イオン濃度を測定することで、品質管理を自動化できます。
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OMNIS滴定システム
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OMNIS滴定システム
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企業情報
スイスのヘリザウに本社を置くメトローム社は、70年以上の歴史を持つイオン分析に特化した分析機器のリーディングカンパニーです。世界140か国以上で製品とサービスを提供しています。長年培われたスイスの技術をベースに、装置は3年保証を実現しています。
