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【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

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滴定による界面活性剤の定量

最終更新日:2025年03月06日

メトロームジャパン株式会社 本社
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半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電位差自動滴定装置を使って品質管理を自動化

酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。 メッキ浴 鍍金浴

    その他検査機器・装置
文書名PDF_酸性銅めっき浴中の塩化物イオン_AN-t100_JP_ver3

【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

文書名PDF_酸性銅めっき浴中の塩化物イオン_AN-t100_JP_ver3 P1_550X550.jpg
文書名PDF_酸性銅めっき浴中の塩化物イオン_AN-t100_JP_ver3 P1_550X550.jpg omnis_4945_550X550.jpg omnis_4377_550X367.jpg
  • 自動滴定装置
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メトロームの自動滴定装置を使用して酸性銅めっき浴の塩化物イオン濃度を測定することで、品質管理を自動化できます。

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【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

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【滴定装置 / KF水分計 / イオンクロマトグラフィー技術資料】電池製造における品質管理分析

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カールフィッシャー水分計OMNIS KF カタログ(水分も滴定も無人運転)

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【滴定装置 技術資料】滴定入門-滴定ってなに?

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スイスのヘリザウに本社を置くメトローム社は、70年以上の歴史を持つイオン分析に特化した分析機器のリーディングカンパニーです。世界140か国以上で製品とサービスを提供しています。長年培われたスイスの技術をベースに、装置は3年保証を実現しています。

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