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最終更新日:2024年01月31日

日本コーティングセンター(JCC)株式会社
日本コーティングセンター(JCC)株式会社
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技術の先端:半導体製造分野へ!超越した耐プラズマエッチング特性と耐熱&電気特性を

『ELIPcoat』は、JCCのPVD技術で開発した被膜です。 酸化物や炭化物セラミックス被膜を緻密な結晶構造で成膜。 生成された被膜には電気的特性や耐熱特性等の化学的・物理的特性を付与します。 結晶粒の大きさの違いが明確なので、パーティクルサイズに影響。 また、被処理材に合わせた温度調整も可能です。 【特長】 ■低温処理が可能(350℃以下) ■絶縁物・樹脂への処理も可能 ■酸化物・炭化物セラミックス被膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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350℃以下の低温処理が可能。被膜『ELIPcoat』

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当社のコーティング技術は、製品の寿命や性能を向上させることにより、 環境負荷を低減する「環境貢献型製品」です。 【ラインアップ】 ■ELIP-RP ■ELIP-HS ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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 350℃以下の低温処理可能耐プラズマ被膜『ELIP coat』

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【事例集】半導体向けコーティング

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あらゆる産業分野において、コストダウン、省資源化、用途の多様化、 更には環境汚染防止などに対応できる表面改質技術の要求はますます高まってきております。 日本コーティングセンター株式会社(JCC)は、“お客様にご満足頂ける技術のご提供”をモットーに、 お客様のさまざまなニーズにお応えする各種表面改質処理技術をご提供してまいりました。 品質・機能面においてもいちはやくISO9001認証を取得。 常にすぐれた品質システムと新しい技術の追求に積極的に取り組んでいます。

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