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ムーアの法則の限界を打破するための積層技術【TSV加工技術】

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最終更新日:2025年05月16日

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WF加工、テストWF作成、貫通配線基板(インターポーザー)など!EB露光、DRIE、 陽極接合をはじめとした各種MEMS加工受託

当社は、半導体加工で培った豊富な知識と経験を基に、EB露光、DRIE、陽極接合をはじめとした 各種MEMS(Micro Electro Mechanical Systems〈微小電気機械システム〉)加工受託サービスをご提供しております。 開発品加工、要素技術加工、Si深堀エッチング、各種成膜など幅広く対応いたします。 また、弊社ではミニマルファブについても取り組んでおります。 TSV形成におけるプロセス技術の重要課題についてもPDFダウンロードからご確認いただけます。 【加工内容】 ■前処理(RCA洗浄) ■成膜(熱Si酸化成膜、CVD成膜〈SiO2、SiN〉、メタル成膜〈Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo〉) ■フォトリソグラフィー(コンタクトアライナー、ステッパー、EB露光) ■エッチング(Wetエッチング、Dryエッチング、DRIE) ■電界メッキ(Cuメッキ、Niメッキ、Auメッキ) ■接合(陽極接合、メタル-メタル接合、プラズマ活性化接合) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

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ムーアの法則の限界を打破するための積層技術【TSV加工技術】

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【業務内容】 MEMS関連事業  加工受託 センサ製品開発  技術コンサルティング 【加工内容(詳細)】 ■前処理  ・RCA洗浄 ■成膜  ・熱Si酸化成膜  ・CVD成膜:SiO2、SiN  ・メタル成膜:Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo ■フォトリソグラフィー  ・コンタクトアライナー  ・ステッパー  ・EB露光 ■エッチング  ・Wetエッチング  ・Dryエッチング  ・DRIE ■電界メッキ  ・Cuメッキ  ・Niメッキ  ・Auメッキ ■接合  ・陽極接合  ・メタル-メタル接合  ・プラズマ活性化接合 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

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