試作対応 少量対応 4～8inch対応 厚み･形状の任意設定可能 基板手配可能 支給基板対応 短納期
SOIウェハーとは酸化膜上にシリコン単結晶層を形成した構造のシリコンウェハーで、高速LSI、低消費LSI、パワーデバイス、MEMSなど幅広い分野で使われております。 当社は一般的なSOI以外にもCavity SOIウェーハやThick-BOX SOIウェーハと言った特殊なSOIウェーハも提供しております。 ＜対応範囲＞ ■対応サイズ：6"8" ■活性層膜厚：100nm～200μm ■面内厚み精度：薄膜±15nm～ 厚膜±0.5μm ■BOX層厚：最大20μm 【各種SOIウェハー特長例】 ■MEMSデバイス製造の工数削減 ■歩留率の向上 ■ダイシング後の後工程を削減 ■高耐圧な半導体パワーデバイスを早期実現 ※詳しくPDFダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
セーレンＫＳＴ株式会社は、世界中のお客様へ酸化膜を中心としたシリコンウェハーへの様々な成膜加工サービスを提供しております。 当社の代表的な加工品でもある厚膜熱酸化膜は、５Gやデータセンターなど、市場が拡大中の光通信部品になくてはならない重要な材料として世界中のお客様へ出荷しております。また、それを応用したSOIウェハーも品質や短納期を実現し、MEMSやパワー半導体向けに試作（小ロット）から量産まで対応できる生産量を有しています。 当社はこれからもシリコンウェハーの成膜加工を通して、広く社会に貢献する、お客様になくてはならない企業を目指しています。