真空ドライプロセスよりコストメリットの優れたウエットプロセスでの反射防止成膜プロセス：交互積層法と装置のご紹介
常温・常圧でコート可能なウエットプロセス「交互積層法」での反射防止成膜を是非ご検討下さい。 反射防止成膜プロセスの主流である真空蒸着などのドライプロセスは、真空条件を必要とするためコスト面での負担が大きいプロセスです。 一方、ウエットプロセスの「交互積層法」では、常温・常圧下で2種類の溶液（カチオン・アニオン）に基材を交互に浸漬させて積層する手法のため真空条件を必要としない手法です。 そのコストメリットは、テスト検証段階は勿論のこと量産設備の段階で非常に大きな差が出ると考えます。
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基本情報
●交互積層法とは： ・プラスに帯電したポリマー溶液：カチオン溶液 ・マイナスに帯電したシリカナノ粒子溶液：アニオン容液 ・この溶液に基材を交互に浸漬させて薄膜を積層させる手法です。 ・各溶液に浸漬・積層処理後にリンス処理を行います。 ・カチオン➡リンス➡アニオン➡リンス：この工程の繰返し ※カチオンとアニオンをそれぞれナノオーダーの膜厚で積層し最終的に希望の膜厚（例えば100ナノメートル）に仕上げて行きます。 ●実験設備構成（簡易仕様）： ・小型ディップコーター ・同装置の台座にターンテーブルを取付け ・ターンテーブル内に最低4槽のビーカー等の液槽を取付け ・処理速度：0.1ｍｍ/ｓ～30ｍｍ/ｓ ・昇降繰返し運転必要：リンス処理に於いて搖動動作を実演させるため ・ターンテーブル回転動作 ・工程繰返し回数指定 ※オプションとして膜厚測定水晶振動子 ●生産設備： ・実験で得られたデータを基に仕様確定 各溶液の材料とリンス液の管理が非常に重要な要素となります。
価格情報
・実験設備に於きましては、卓上サイズで200～300万円 ・量産設備は各仕様事に変動しますので要相談となります。
納期
用途／実績例
反射防止膜
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企業情報
ディップコーティングと前後工程の洗浄並びに乾燥装置の専門メーカーです。 当社は長年にわたって業界で活躍してきた「プロ集団」で、これまでの経験と実績（さまざまな基材・形状・コート剤を扱い）をベースとした、実験機・プロト機の製造やテストコートから得られる貴重なノウハウ（液管理・空調管理etc.）を活かした実験装置、生産装置の製造・販売を行っております。 お客様に最適なコーティングシステムの提案を目指し 「実験機・テストコート・プロト機・生産（量産）装置」を 「洗浄・ディップコート・乾燥」工程までワンストップでご提供致します。 簡易な無償テストも行っておりますので、コーティングをご検討のお客様、現在お困りのお客様、こんなコーティングが出来ないかとお考えのお客様、試しに塗布してみませんか？ お気軽にお問い合わせください。