ヒーターの大型化・任意形状対応、表面処理機構増設、真空装置接続等の対応が可能！
当製品は、制御応答性が高く、ガス放出のきわめて少ない構造の クリーンヒーターです。 試料直接照射加熱、及びホットプレート間接加熱ともに対応可能。 熱容量が小さく、超高真空中・大気圧中・酸素雰囲気中での使用ができます。 【特長】 ■均一照射が可能なハロゲンランプ ■経済的でエネルギー効率・応答性の高いヒーター ■石英ボディーランプ、高温対応の金属リフレクタ・ベースで構成 ■ガス放出が極めて少ない構造 ■最高温度900℃（温調測定点、真空中）加熱可能 ■非常に制御応答性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様例（一部）】 ■基板加熱ヒーター ・光源：ハロゲンランプ（5本） ・電力：600W×5本 ・照射エリア：φ100 ・加熱雰囲気：真空及び酸化雰囲気 ・ランプ制御：PID制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
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