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HTEヒーター Max1500℃

最終更新日:2024年10月12日

テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
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真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 1500℃、としても利用できるバーサタイルなヒーターユニット

HTEヒーターは最高使用温度は1500℃の超高温真空用加熱ヒーターユニットです。 蒸発温度の高い材料も使用することができますので、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)・高温抵抗加熱蒸着(~ 1500℃)など、真空蒸着成膜用としても様々な用途に応用いただけます。真空成膜用蒸着ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも追加可能。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。 シャッターはフリップ式を採用。チャンバー内に複数の蒸着ソースを設置しても他のコンポーネントに干渉することがありません。 上部キャップを外すだけで坩堝を取り出すことができますので、材料の充填・補充作業に手間がかかりません。 本体部は、1cc 坩堝用(最大充填量1.5cc)、10cc 坩堝用(最大充填量15cc)があり、固定ベースをチャンバーから外さず本体ボディをベースに差し替えるだけで交換することが可能。 熱電対は2 種類、K タイプ、C タイプのいずれかをご指定いただけます。 るつぼ:アルミナ(標準)、石英、PBN、カーボンが選択できます。

    蒸着装置加熱装置電気炉
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◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃

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基本情報

【主仕様】 ■最高制御温度:800℃、又は1500℃ ■使用環境:真空中・不活性ガス(*O2 は800℃まで) ■ヒーター:タングステンフィラメント ■るつぼ容積:1cc(最大充填量1.5cc) ■るつぼ材質:アルミナ(標準) ■ケース材質:SUS304, 又はモリブデン ■熱電対:K タイプ、又はC タイプ 【オプション】 ⚫︎るつぼ材質:PBN, グラファイト, 石英 ⚫︎ヒーター:NiCr 線, カンタル線 ⚫︎るつぼ容積:10cc(最大充填量15cc) ⚫︎シャッター:空圧式, 又はモーター駆動 ⚫︎水冷ジャケット ⚫︎コントローラー(ヒーター・シャッター制御ボックス)

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用途/実績例

高真空中るつぼ加熱ヒーター、真空蒸着用 有機材料蒸着源、高温蒸発金属蒸着源など。

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◆HTEヒーター/OLED有機蒸着・高温金属蒸着セル◆ Max1500℃

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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

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【SH 高温 基板加熱ヒーター】(Inc/BNプレート Max1100℃)PVD CVD 真空薄膜用 高温 プレートヒーター

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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ヒーター

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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

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Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

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【TCF-C500】超高温小型実験炉 Max2900℃

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【マグネトロンスパッタリングカソード】

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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

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多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-S125A】Φ4〜12"対応

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多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S070】

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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

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グローブボックス薄膜実験装置【MiniLab-026/090-GB】

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★nano BenchTopシリーズ 薄膜実験装置★

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【nanoPVD-S10A】RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

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【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

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【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置

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スパッタ・蒸着ソース混在 複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

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ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力制御によるダメージレスエッチング

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◆nanoANNEAL◆ ウエハーアニール装置

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Products Guide_【超高温実験炉 製品ガイド」

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薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2025」

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【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー

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【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

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【PyroUSB】USB接続式 高精度赤外線温度センサー

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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

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【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー

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この製品に関するニュース(45)

BHシリーズ 超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃

BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

  • カタログニュース

PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ●セミカスタム製品です。ご要望に応じて設計製作いたします。 ●予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) ●RF/DCバイアス、基板回転などにも対応 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● RF(150W)/DC(1KW)バイアス印加 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子

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☆★☆【nanoETCH】ソフトエッチング装置☆★☆

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<30W低出力制御によるダメージレスエッチング 出力制御精度10mWで、繊細なエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 【特徴】 • 2D(遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離):表面改質クリーニング • PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去 • テフロン基板などのダメージを受けやすい基板での表面改質、エッチング • h-BNサイドウオールエッチング(*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, SF6ガス系統要) • SiO2エッチング(*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, CHF3ガス系統要) 仕様】 ◉ 対応基板:〜Φ6inch ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動シーケンス ◉ APC自動圧力コントロール ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、自動エッチングレシピ作成・保存。PCでデータロギング

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多元同時スパッタ装置【MiniLab-S125】

【MiniLab-125】 12inch対応 多元マルチスパッタ装置 1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング )搭載!コンパクトサイズ!

  • 製品ニュース

多元マルチスパッタリング装置(Φ12inch基板対応) ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF150W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能) ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF150W ・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などとの混在仕様も構成可能です。

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MiniLab-070薄膜実験装置

多機能マグネトロンスパッタリング装置 【MiniLab-S070】

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Φ2inchカソード x 4元搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF150W or DC780W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) デポレート・膜厚レート制御 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などとの混在仕様も構成可能です。

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テルモセラ・ジャパン株式会社

テルモセラ・ジャパン株式会社 本社

産業用電気機器

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【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。

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