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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

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BHS series

最終更新日:2024年10月12日

テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
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PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。

高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ●セミカスタム製品です。ご要望に応じて設計製作いたします。 ●予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) ●RF/DCバイアス、基板回転などにも対応 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● RF(150W)/DC(1KW)バイアス印加 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子

    加熱装置
BHS-series_iPROS-1.jpg

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

BHS-series_iPROS-1.jpg
BHS-series_iPROS-1.jpg
  • テルモセラ・ジャパン BH基板加熱ヒーター掲載ページ
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/thermocera/product/

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基本情報

【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【熱電対】 ◉ Kタイプ、又はCタイプ 【ヒーター素線材質】 ◉ Max 1800℃:Graphite, C/Cコンポジット素線_(真空中, Ar, N2) ◉ Max 1500℃:SiCコーティング素線_(真空中, Ar, N2, O2) ◉ Max 1600℃:タングステン素線_(真空中, Ar, N2, He, H2) ◉ Max 1400℃:タンタル素線_(真空中, Ar, N2, He, H2) ◉ Max 900℃:カンタル 素線(真空中, Ar, N2, He ,O2, H2) ◉ Max 900℃:NiCr素線_(真空中, Ar, N2, He, H2, O2, 大気

価格情報

詳細は当社までお問い合わせください。

価格帯

10万円 ~ 50万円

納期

詳細はお問い合わせください

※仕様により納期が変動します、当社までお問い合わせ下さい。

用途/実績例

PVD(スパッタ, ALD, PLDなど)CVD基板加熱ヒーター、分析装置試料加熱用ステージ、高温基板加熱ステージ・ホルダー、など。

詳細情報

  • BHS-1'_iPROS_550.jpg

    BHS-1inchヒーター

  • BHS-2'_iPROS_550.jpg

    BHS-2inchヒーター

  • BHS-4'_iPROS_550.jpg

    BHS-4inchヒーター

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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

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【SH 高温 基板加熱ヒーター】(Inc/BNプレート Max1100℃)PVD CVD 真空薄膜用 高温 プレートヒーター

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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ヒーター

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◆HTEヒーター/OLED有機蒸着・高温金属蒸着セル◆ Max1500℃

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実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2025」

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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

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Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

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【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max2000℃

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【TCF-C500】超高温小型実験炉 Max2900℃

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薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2025」

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【nanoPVD-S10A】RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

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【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

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【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置

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◆nanoANNEAL◆ ウエハーアニール装置

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【マグネトロンスパッタリングカソード】

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★nano BenchTopシリーズ 薄膜実験装置★

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【PyroUSB】USB接続式 高精度赤外線温度センサー

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【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー

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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

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【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

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【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー

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【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー

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多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-S125A】Φ4〜12"対応

多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-S125A】Φ4〜12"対応

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多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S070】

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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

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グローブボックス薄膜実験装置【MiniLab-026/090-GB】

グローブボックス薄膜実験装置【MiniLab-026/090-GB】

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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

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ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力制御によるダメージレスエッチング

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スパッタ・蒸着ソース混在 複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

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◆nanoANNEAL◆ ウエハーアニール装置

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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar) [nanoANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

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ウエハーアニール装置【nanoANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応

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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar) [nanoANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

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高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

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◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲(るつぼ寸法) ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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◉超高温実験炉 【Mini-BENCH-prism】 セミオート式 Max2000℃

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◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲(るつぼ寸法) ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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科学・理化学機器
熱設備の脱炭素・低炭素化技術のご紹介【水素ガスバーナー2025】
株式会社正英製作所 本社、東京支店、名古屋営業所、大阪支店、広島支店、九州支店

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