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【プロセス分析計 技術資料】ウエハ用洗浄槽の自動モニタリング

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インライン近赤外分析計

最終更新日:2026年06月09日

メトロームジャパン株式会社 本社
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ウエハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインライン近赤外分析計でモニタリング!

半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。 試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法(NIRS)によるインライン分析が有効です。 オンライン分析計 プロセス分析計 インライン分析計

    ウエハー半導体検査/試験装置分光分析装置
AN-PAN-1055_JP_ウェハ用洗浄槽の品質パラメータモニタリング_ver2_image_388X550.jpg

【プロセス分析計 技術資料】ウエハ用洗浄槽の自動モニタリング

AN-PAN-1055_JP_ウェハ用洗浄槽の品質パラメータモニタリング_ver2_image_388X550.jpg
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スイスのヘリザウに本社を置くメトローム社は、70年以上の歴史を持つイオン分析に特化した分析機器のリーディングカンパニーです。世界140か国以上で製品とサービスを提供しています。長年培われたスイスの技術をベースに、装置は3年保証を実現しています。

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