最小0.1μmからのパーティクルを除去！半導体ウェハなどの洗浄に
当製品は、微細凹凸部のダストを超音波で除去する 高周波超音波洗浄処理システムです。 半導体ウェハやマスクなどの洗浄に使用いただけます。 ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式、その他の洗浄処理システムを ラインアップしています。 【特長】 ■微細凹凸部のダストを超音波で除去 ■400kHz～5MHzのトランスデューサを備える ■最小0.1μmからのパーティクルを除去 ■ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式などをラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【洗浄対象例】 ■半導体ウェハ ■マスク ■LCD ■サブストレート ■MEMS ■太陽光関連 ■微細構造部品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
小型モータ(最小外径1.9mmφ）から取り揃えております。 モータ1個から販売します。 真空中で、使用可能なモータも取り揃えております。
