レジスト膜の乾燥などに好適！製品や材料の寸法、種類に応じて様々なご要望に対応
半導体工業におけるウエハーの焼鈍やレジスト膜の乾燥、 光学分野での 洗浄後のレンズ乾燥および医療器材の無菌乾燥等は高温・高清浄度環境で 制御された「クリーンオーブン」が好適です。 当社では、庫内温度60～200℃の”標準”や、蒸気オーブン・大型オーブン といった方式の”特殊”な『クリーンエアーオーブン』を取り扱っております。 また、製品や材料の寸法、種類に応じて様々なご要望に対応。ご用命の際は お気軽にお問い合わせください。 【標準クリーンエアーオーブン 仕様（一部）】 ■型式：ACO-200-554K ■清浄度（常温時、総合効率にて）：ISOクラス5（クラス100） ■集塵効率：0.3μm粒子にて99.97％以上 ■集塵要素 ・メインフィルター：高温用HEPAフィルター ・プレフィルター：不織布フィルター ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【特殊クリーンエアーオーブン 仕様（一部）】 ■方式 ・蒸気オーブン ・大型オーブン ■清浄度：ISOクラス5（クラス100） ■集塵効率：0.3μm粒子にて99.97％以上 ■集塵要素（メインフィルター）：HEPAフィルター ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
日本で唯一のクリーンエアーシステム専門メーカーとして、 総合的な製品群と専門性の高い技術力を強みに、クリーン関連製品をグローバルに提供しています。 ■長年の技術を基盤にした確かな技術力と国内２年保証 ■グローバルな対応もお任せください！ ■幅広い業種とご要望に対応する豊富な製品群があります
