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『ナノ位置決めステージ』『レーザ干渉式変位センサ』

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最終更新日:2025年12月01日

株式会社日本レーザー
株式会社日本レーザー
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ナノオーダーの高精度位置決めと、1ピコメートルのセンサ分解能による変位測定で、高品質の半導体製造を実現

当社は、attocube社製の半導体製造装置向け『ナノ位置決めステージ』や 『レーザ干渉式変位センサ』を取り扱っています。 高精度の位置決めを実現でき、数kgの荷重量に対応したステージなど 様々なニーズに応えられる製品をラインアップ。 クローズドループ制御に対応しており、精密な制御を実現可能です。 非常にコンパクトで、装置への組み込みも容易に行えます。 【製品ラインアップ】 『ナノ位置決めステージ』 ■高真空・超真空対応 ■過酷な環境下でも高精度・高分解能での位置決め ■最大6軸までのステージを構築可能 『レーザ干渉式変位センサ IDS3010』 ■ピコメートルオーダーの高精度・高分解能 ■10MHzの超高速動作、最大5mの作動距離 ■様々な材質、超高真空・高磁場などの環境に対応 ※詳しくはカタログをご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

    センサ
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『ナノ位置決めステージ』『レーザ干渉式変位センサ』

motion-sensing-202307.png
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基本情報

【ナノポジショナ&高精度ステージ】 *超高真空・高磁場・非磁性対応 *耐荷重:ナノメートルスケール分解能で数kgまで可能 *クローズドループ制御可能:高速、高分解能、高い位置再現性 【干渉式リニア変位センサ】 *ピコオーダー分解能と長い作動距離(5m) *超高速(10MHz) *多様な材質や極端環境(超高真空、高磁場)に対応

価格帯

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用途/実績例

【工作機械(QA, QC)】 *ステージガイドによる超精密インライン・トラベルリアルタイム特性制御 *工作機械とCMMの自動体積補正 *センサ内蔵によるモーションキャプチャ *三次元測定機のモーショントラッキング *振動と微動の監視・分析・補正 【半導体製造装置】 *ウェハステージのダイナミックモーションコントロール *測定・検査のためのビームアライメント *ウェハ平坦度測定 *リソグラフィと測定プロセスにおけるビームアパーチャとフィルタの位置決め *フォトリソグラフィにおける超精密ポジショントラッキング 【フォトニクス】 *ファイバアレイの超精密位置決め *光計測におけるレーザービームステアリングや光学部品のアライメント *高分解能顕微鏡内の位置決めやアライメント

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attocube 超高精度モーション&センサ製品(半導体製造装置向け)

attocube 超高精度モーション&センサ製品(半導体製造装置向け)

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日本レーザーは1968年の創業より、レーザー専門商社の草分けとして、お客様に支えられながら、レーザー技術の進歩と共に歩んで来た日本で最古・最大のレーザー及び光関連製品の専門企業です。 従業員数の1割強をエンジニアに割いており、技術色の強みを持つ商社です。 米・英・独・仏・スイス・デンマーク・リトアニアなど世界各国の優れたレーザー製品、光関連製品を提供いたしております。各国のトップクラスのメーカーと代理店契約を締結しており、現在の海外取引先数は約50社になります。また当社は、世界より集めたレーザー関連機器を独自に組み上げ、応用システムとして販売提供が可能です。商社でありながらファブレスメーカー的なサービスも提供可能です。お客様の要求に感謝の気持ちを持って、常に柔軟でアグレッシブなソリューションを提供してまいります。

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