高エネルギーのパルス電子ビームで目的物質を素早く蒸発！全固体物質の成膜が可能
『Pioneer 180 PED System』は、パルス電子堆積法はPLD同様種々の デバイスに対して複雑な物性の薄膜形成が可能な、PED(パルス電子堆積法)装置です。 高エネルギーのパルス電子ビーム(80-100nsのパルス幅、＜1000A、15kV)により、 目的物質を素早く蒸発させることが可能で、全固体物質の成膜が可能。 基板サイズが直径10mmから2inch対応で放射加熱により、 850℃まで基盤を加熱することができます。 【特長】 ■パルス電子堆積法は PLD 同様種々の デバイスに対して複雑な物性の薄膜形成が可能 ■高エネルギーのパルス電子ビーム (80-100ns のパルス幅、＜1000A、15kV)により 目的物質を素早く蒸発させることが可能で、全固体物質の成膜が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【その他の特長】 ■基板サイズが直径10mmから2inch対応で、 放射加熱により850℃まで基板を加熱することが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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