クニマイトは、500℃に加熱してもノークラックの高耐熱性アルマイト皮膜です。
半導体製造装置にクニマイトを利用すると、 １．350℃以上に加熱してもクラックが発生しません。 ２．クラックによるパーティクルの発生がありません。 ３．クラックからの腐食も発生しません。 ４．50μｍの厚膜は、プラズマによる物理エッチングに優れた耐食性を示します。 ５．ガス放出速度は、一般的なアルマイト皮膜の10倍高速度で、迅速に加工真空環境に到達します。 【クニマイトの特長】 ■パーティクルの削減 ■クラックレス皮膜 ■加工真空度への到達が高速 ■加工工程の時間短縮 ■50μｍ厚膜で製品寿命が長い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※現在、特許申請中です。
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クニマイトは次世代半導体装置が抱える問題を解決します。 パーティクルの発生を解決 加工工程の時間を短縮してタイムロスを解決 製品寿命が長く、装置のメインテナンス問題を解決
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詳細情報
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半導体製造装置への高耐熱性アルマイト加工のクニマイトは、 １．クラックが発生しないため、パーティクルも発生しません。 ２．よって、本来クラックから発生する腐食もありません。 ３．プラズマ＋ガスに対して高い耐食性を有するので、パーティクルの発生を抑えます。 ４．プラズマによる物理エッチングに対しても、５０μｍの膜厚が長時間腐食から守ります。 したがって、クニマイト加工したアルミニウムは高温環境下で使用する部品にも使用することが可能です。 【特長】 ■パーティクル量の削減に効果がある ■熱によるクラックの発生が無い ■プラズマエッチング装置内で長時間使用してもパーティクルは発生しない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※現在、特許申請中です。
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企業情報
中国電化工業株式会社は、山口から未来のテクノロジーに挑戦するグローバルカンパニーです。 アルマイトを始めとする金属表面処理を行っています。 独自の技術で、半導体製造装置に使用されるアルミニウムへの表面処理を得意としています。 常にカーボンニュートラルを意識し、汚染防止に最善を尽くし、地球環境の保護・保全に努めています。