エリプソメトリによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価について解析例を紹介する。
技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品質管理等のお役に立つ分析技術の最新情報です。 【要旨】 分光エリプソメトリーは光の偏光状態の変化を測定し、光学定数（屈折率・消衰係数）や膜厚を評価する手法として知られている。2021年に導入した高速分光エリプソメトリーM-2000UIによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価について解析例を紹介する。 【目次】 １. はじめに ２. エリプソメトリーについて ３. PVA膜スピンコート直後の経時変化 ４. シリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価 ５. おわりに
この製品へのお問い合わせ
基本情報
技術情報誌The TRC News「エリプソメトリーを用いた薄膜の光学定数及び膜厚の評価」 【要旨】 分光エリプソメトリーは光の偏光状態の変化を測定し、光学定数（屈折率・消衰係数）や膜厚を評価する手法として知られている。2021年に導入した高速分光エリプソメトリーM-2000UIによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価について解析例を紹介する。 【目次】 １. はじめに ２. エリプソメトリーについて ３. PVA膜スピンコート直後の経時変化 ４. シリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価 ５. おわりに 【図表】 図1 反射光の偏光状態の変化 図2 PVA膜/熱酸化膜/Si基板の測定解析結果 図3 PVA膜(赤)と熱酸化膜(青)の屈折率の波長分散 図4 スピンコート後大気下乾燥中のPVA膜の膜厚と屈折率の経時変化 図5 スピンコート後大気下乾燥中のPVA膜中に含まれる水分量の変化 図6 自動エッチング装置から得られる傾斜面 図7 傾斜エッチングした熱酸化膜/Si基板の熱酸化膜の膜厚分布 図8 X=0.45 cmにおけるY軸方向の膜厚変化
価格情報
2,200円（税込）
価格帯
~ 1万円
納期
即日
※web申し込み、Paypal決済
用途／実績例
https://www.toray-research.co.jp/service/trcnews/をご覧下さい
企業情報
株式会社東レリサーチセンターでは、受託分析を通じて、研究開発や生産分野における様々な課題に対して、分析技術や物性解析による技術支援を行っております。分析・物性評価の長年の実績と豊富な経験に基づき、高度で広範囲にわたるお客様のご要望にお応えできるよう努力を続けております。
