濃度～100ppm、流量～60L/minの幅広い適応範囲！多種多様な要求に対応
当社では、『半導体プロセス向けオゾン水生成装置のオーダーメイド製造』 を行っております。 半導体・FPD分野の製造プロセスにおける洗浄用途に活躍。 用途に応じたカスタマイズが可能なオゾン水生成装置です。 洗浄、レジスト剥離用途に適合、枚葉式洗浄装置にも好適です。 【特長】 ■旋回流式溶解法を採用 ■金属汚染のないクリーンオゾン水 ■幅広い要求に対応 ■カスタマイズ歓迎 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■貴社のニーズにきめ細かく対応 ■高精度オゾン水濃度制御 ■発生器、混合器の個別利用可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
用途／実績例
【用途】 ■半導体洗浄 ■液晶製造工程 ■太陽電池洗浄 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
企業情報
21世紀の科学技術を担う私たちにとって循環型産業構造の構築は最重要課題です。 当社はこの課題に向けての新技術開発の支援をモットーといたします。 特にそのためのキーテクノロジーと目されるオゾン利用技術の技術的基盤を高めるため、低価格且つ高性能のオゾン発生装置をオゾン利用の現場へ供給致します。また、オゾン利用技術情報を蓄積し、情報面における普及、開発支援もいたします。