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光干渉式膜厚測定装置『Model3100』

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最終更新日:2026年04月15日

株式会社アークステーション
株式会社アークステーション
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多数の納入実績を誇る業界標準機!リニアアレー受光素子を採用し高速測定を実現

『Model3100』は、受光素子にリニアアレー素子を採用し、 高速測定を実現した光干渉式膜厚測定装置です。 スペクトル解析ソフトを標準搭載することにより、多層膜(通常3層まで)の 同時測定および光学定数(n,k)の測定が可能。 各種膜特性に適合したきめ細かなパラメータの設定ができ、より豊富な 各種膜構造の膜厚測定ができます。 【特長】 ■高感度高分解能ヘッド(オプション)にて酸化膜換算で70μmまで測定可能 ■100倍レンズ(φ0.75μmの微小スポット)も使用可能 ■プロセスに適合した特殊膜測定用のプログラム設定が容易に実現可能 ■さまざまなアプリケーション(磁気ヘッド、FPD、材料研究等)に対応し、  用途別に試料台作成可能(オプション) ※詳しくはカタログダウンロードまたは、お気軽にお問い合わせ下さい。

    光学測定器
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光干渉式膜厚測定装置『Model3100』

3100.PNG
3100.PNG
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基本情報

【基本仕様(抜粋)】 <型式:3100(標準ヘッド)> ■測定プログラム:基板材質を選ばず多層膜(通常3層膜まで)の測定が可能 ■測定波長範囲:380~800nm ■膜厚測定範囲:100Å~30μm(膜厚による) ■測定再現精度:2Å(同一ポイント15回測定時の1σ)※膜厚による ■測定時間:0.1~25秒/1ポイント ■対物レンズ(スポットサイズ):5倍(φ50μm) ■対物レンズオプション:10倍(φ25μm)、50倍(φ5μm) ■装置構成:可視光、フォログラフィック凹面回折格子、リニアアレー素子 ※詳しくはカタログダウンロードまたは、お気軽にお問い合わせ下さい。

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光干渉式膜厚測定装置『Model3100』

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新品、中古装置含め、検査・分析装置は各種取り扱いがあります。(全自動XPS膜厚濃度測定装置、重ね合わせ精度測定装置、両面座標測定装置、膜厚測定装置、エリプソメーター、光学式三次元測定装置、ウェーハエッジ検査装置、透明ウェーハ表裏欠陥検査装置、外観検査装置、実体顕微鏡、露光装置)

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