独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品質な真空成膜を実現！
『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現 ■LIAの多点制御により、より細かな均一性を確保 ■従来比5倍以上の超高速成膜を実現 ■多彩なオプションをご用意 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
■ 対象基材：樹脂フィルム（PET、PEN）、金属箔 【仕様(一部)】 ・対象膜：DLC、SiN、SiOなど ・成膜方法：デポダウン、静止成膜(インライン成膜も対応可能) ・温調：ステージ温調＜500℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
用途／実績例
【用途】 ■DLC ■機能膜 ■表面改質 ■表面処理 ■エッチング ■アッシング ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ラインアップ（1）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| VC-R400F | ・対象基材：樹脂フィルム（PET、PEN）、金属箔 |
カタログ（1）
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企業情報
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