主に半導体リソグラフィ用途に13.5nmのEUV光源が用いられます！
EUVは、極端紫外光のことで、Extreme Ultravioletの略称です。 主に半導体リソグラフィ用途に13.5nmのEUV光源が用いられ、 従来のArFエキシマレーザー(193nm)に比べより微細なパターンが 描写可能です。 EUVは物質への吸収率が極めて高く透過型の光学系(レンズ)を 使用できないため、反射光学系(ミラー)を用いる必要があります。 【特長】 ■物質への吸収率が極めて高い ■透過型の光学系(レンズ)を使用できないため、反射光学系(ミラー)を 用いる必要がある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
夏目光学株式会社は、光学専門メーカーとして光学素子『シリンドリカルレンズ』や『球面レンズ』『プリズム』などを取り扱っております。また、この他にも各種画像処理装置の開発・設計・販売を行っております。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。