時代のニーズに応え、進化する3つのラインアップ！3D局所加熱装置をご紹介
『S-WAVE』は、金属ベース基板をはじめ、セラミック基板から 低耐熱部品まで対応する3D局所加熱装置です。 狭いスポットを急速300℃加熱する「S-WAVE301A」 高い連続運転性能を実現する「S-WAVE301」 従来機種と比較し2倍の加熱力を実現する「S-WAVE301H」。 時代のニーズに応え、進化する3つのラインアップを ご用意しております。 【特長】 ＜S-WAVE301A＞ ■低消費電力で高い加熱効率を実現 ■スルーホール端子のはんだ付けに好適 ■プリント基板等のパッド面を予熱 ■輻射熱を抑え、終戦部品への影響を抑制 ■ICNIRP、電波法などの各種規制に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ＜S-WAVE301＞ ■冷却力UPで高出力時の加熱時間を伸長 ■加熱間隔を短く、サイクルタイムを短縮 ■ヘッドユニットの小型化を実現 ■はんだ上がりの改善、赤目対策に有効 ＜S-WAVE301H＞ ■大きな熱量を要するプリント基板をスポット加熱 ■パワー半導体のはんだ上がりを改善 ■バスバーのはんだ上がりを改善 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■金属ベース基板、セラミック基板、厚銅基板、高多層基板、4層基板 ■パワー半導体、バスバー、両面基板、片面基板、電子部品一般 ■フレキシブル基板、低耐熱部品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
時代の最先端の技術力と共に分野を超えた情報力やノウハウを活かし、お客様のビジネスに付加価値を生み出します。 素材から完成品まで、どんな難題にも精一杯お答えしてまいります。