Premtek RTP-1200A（SEC）（SEF）
4～8インチに対応した、シングルチャンバ全自動RTP装置です。搬送方式はオープンカセット・SMIFどちらかの選択で、カセットステーションは2台になります。 ウェハをサセプタに格納してプロセス処理をするため、反り、厚さ、透過率等のウェハの特性に関わらず、抜群のRc・温度均一性を実現します。 熱源はハロゲンランプで、上下両面配列です。 温度測定範囲は20℃～1250℃となります。熱電対とパイロメータがリアルタイムの温度測定をし、その結果をスマートPIDおよびマルチゾーンSCRが制御することで、優れた温度コントロールを可能にします。 真空チャンバ内には酸素濃度モニターを搭載し、酸素フリーな環境維持をサポートします。 Windowsベースのソフトウェアはマルチリンガル対応。グラフィカルなユーザーインターフェースで直観的な操作を可能としています。 累積出荷台数500台以上の実績で得られたプロセスプロファイリングのノウハウと、常時5台用意されたデモ環境で、貴社のプロセス開発における課題解決のお手伝いを致します。
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基本情報
【仕様】 ■ 温度制御範囲：200～1250℃ ■ 温度制御方式：マルチPIDコントロール ■ 面内温度均一性：≦±3％（600℃以下）、≦±1.5％（600℃以上） ■ 面内抵抗値均一性：面内抵抗値均一性 ■ 真空：〇 ■ ウエハ寸法：6～8 ■ 加熱ランプ：タングステン・ハロゲンランプ ■ ウエハ搬送：フルオート（５軸ロボット） ■ プロセスガス系統数：4 ■ ウエハ位置合わせ：センタリング、OCR、アライナー（Op） ■ 昇温レート：25℃/秒（サセプタ使用時） ■ サセプタ：SiCコーティングカーボン ■ 装置外形寸法：D：1580 W：1500 H：1800mm
価格帯
納期
※十ヶ月 （仕様によって納期が変動致しますので、お気軽にお問い合わせください。）
用途／実績例
■ アプリケーション ・インプラ後のアニーリング ・ドーパント活性化 ・金属膜コンタクトアニーリング ・シリサイド形成（チタン、コバルト、ニッケル、白金など） ・ソース/ドレインアニーリング
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企業情報
半導体製造装置やその部品について、新品から中古品までお客様のニーズに合わせてご提案しております。海外メーカーの正規販売代理店として輸入販売している他、保証・アフターサービスのあるリファービッシュ品も提供。また、過剰装置の買取お及び移設・撤去も対応可能です。スタッフが在住しているため、アジアを中心とした海外でのサポートもご相談ください。経験を駆使して、お客様の生産業務を総合的にサポートいたします。