再現性±0.3%（F.S.）以下、大幅な省レジストを実現
【特長】 ●レジスト液の使用量を大幅に削減。 ●パーティクルが発生しにくい構造です。 ●吐出速度を1ショットで任意に変更可能。多様なコートプロセスに対応します。 ●内臓の圧力センサ（オプション）で吐出圧力をモニタリングすることで、フィルタの交換時期を管理可能。 ●高粘度用途に対応、LEDやMEMSデバイス製造プロセスに。（PDS-H115) 詳しくはPDFデータをダウンロードいただくか、お気軽にお問合せください。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
PDS-105R 【概略仕様 50/60Hz】 ■最大吐出量：5.0 mL/shot ■吐出速度：0.1〜4.0 mL/sec ■吸込速度：0.1〜3.0 mL/sec ■最高吐出圧力：0.15MPa ■最大移送液粘度：200mPa·s PDS-H115 【概略仕様 50/60Hz】 ●最大吐出量：12.0 mL/shot ●吐出速度：0.5〜2.0 mL/sec ●吸込速度：0.3〜2.0 mL/sec ●最高吐出圧力：1.0 MPa ●最大移送液粘度：10,000 mPa·s
価格帯
納期
※数量によって納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
●レジストコートプロセス ●LEDやMEMSデバイス製造プロセス ●電解液充填
カタログ（4）
カタログをまとめてダウンロード
この製品に関するニュース（1）
企業情報
弊社は豊富な品揃えであらゆる要求スペックに対応する、ケミカルポンプの総合メーカーです。超微量注入、大流量移送、純水、高粘度液、スラリー混入液・・・ケミカルポンプの用途は多方面にわたり、要求される内容もそれぞれ異なります。たとえば 強酸・強アルカリを厳しい条件下で扱うケミカルプロセスでは、耐食性能はもちろん耐久性・安全性が強く求められます。半導体プロセスではコンタミネーション、パーティクルの溶出のないことが、また食品製造プロセスではサニタリー性が必須条件となります。近年ではポンプをベースとした、制御システムやユニット化のニーズも増えています。弊社はこれらに対し「多品種主義」で臨みます。永年の経験と実績に基づいた、きめ細かな品揃えでお客様の要求に的確にお応えいたします。流体の移送に関するご用命ご相談は、まず当社へご一報ください。