プラント事業の容器内を真空状態にする設備を導入した事例！
プラント設備製造業へ「実験用真空チャンバー」を製造した実績について ご紹介いたします。 プラント事業の容器内を真空状態にする設備を導入。真空チャンバーの サイズは、φ10B×高さ1200mmで、到達真空度が10Pa以下となっており、 真空ポンプは、空冷式ドライ真空ポンプ。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【実績概要(抜粋)】 ■真空チャンバー 材質：ステンレス製 ■真空チャンバー サイズ：φ10B×高さ1200mm ■真空チャンバー 容量：約58L ■到達真空度：10Pa以下 ■真空ポンプ：空冷式ドライ真空ポンプ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社では、CVD、スパッタ、蒸着などの成膜装置から大気圧プラズマ、 加熱/乾燥炉など真空/大気圧問わず実験装置から生産装置まで、お客様の 要望に合わせて装置を設計、製造致します。 また、CVD法の一種であるプラズマCVD法によりDLC膜を生成します。 a-SiCやSiOxといったSi系膜の作成も可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
