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【分析事例】GaNの部分状態密度測定

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最終更新日:2025年03月13日

一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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価電子帯・ギャップ内準位について元素別の情報が得られます

放射光を用いた軟X線発光分光(SXES)は材料を構成する各元素について、フェルミ準位近傍の部分状態密度(pDOS)を直接的に得られるため、材料の電子状態を評価する手法として幅広く用いられています。さらに本手法の特長として、 1. バルクの情報が得られる 2. 絶縁物に対しても帯電の影響を受けず評価可能 3. 検出下限が低い(<1atomic%) などが挙げられ、特に軽元素(B、C、N、O等)を含んだ材料の評価に有効です。本資料では測定例としてGaN基板のSXESスペクトルをご紹介します。

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【分析事例】GaNの部分状態密度測定

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測定法:XAFS・SXES 製品分野:照明・酸化物半導体・LSI・メモリ 分析目的:電子状態評価

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照明・酸化物半導体・LSI・メモリの分析です。

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