Si基板上のSiO2表面酸化膜について、光電子分光から酸化膜厚を算出！
酸化膜の形成プロセスにおいて、酸化膜厚の制御は非常に重要な項目の1つです。 そこで、光電子分光を用いて表面酸化膜の膜厚を非破壊で見積りました。 表面が薄い酸化膜で覆われているような試料の場合、多くの元素の光電子ピークは 酸化物成分と基板成分に対応して2つのピーク構造を示します。各成分のスペクトル 強度を測定することによって酸化膜の膜厚を見積ることができます。 非破壊にて膜厚を求める分析手法はいくつかありますが、他の手法に比べ、 特定箇所の膜厚の見積りが可能であるところが、この手法の特長です。 ※記事の詳細内容は、添付のPDF資料より閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
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