はんだごて不要でメンテナンス性向上
IHによるはんだ付けは、精密な電磁界を使用して2つ以上の導電性材料（金属）を加熱し、 接合材料の融点未満の温度で溶融する半田でそれらを接合するプロセスです。 はんだ付けはろう付けとは異なり、低温で行われます。ろう付けと比較すると はんだ付けは接合部がわずかに弱い場合がありますが、小型部品などの一部の用途には適しています。 またはんだ付けは、接合部の溶融を伴う溶接とも異なります。 【よくある問題点】 ■強度がそれほど無い ■疲労に対する抵抗力が少ない ■使用できる温度範囲は170°C以下 【上手なはんだ付けのこつ】 ■表面の清浄度が重要 ■両方の金属の接続点の温度を同時に同じ温度にする ■温度が高すぎると丈夫なはんだ付けにならない ■糸はんだや棒はんだの代わりに、加熱前に接続部分の形に仕上げたはんだをおく ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【高周波誘導加熱(IH)活用による利点】 ■急峻な加熱 IHは急峻な加熱が可能です。金属をすばやくはんだ付けしたい場合にはIH が最適です。 ■高い再現性 IHはプロセスが設定されると何度でも同じ結果が期待できます。 これは、はんだごてやトーチで見られるバラつきの可能性を最小限に抑えるのに役立ちます。 ■精密な制御 精密な加熱により、熱ストレスを回避しながらプロセスを制御できます。 特定のアプリケーションにおける IH システムの効率は、次の 4 つの要因に左右されます。 ・ワーク自体の特性 ・インダクタの設計 ・電源容量 ・アプリケーションに必要な温度変化量 IHはんだ付けが仕様に合致するかどうか、お気軽にご相談ください。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
誘導加熱用電源と加熱装置、プラズマ用高周波電源、ＲＦパワーアンプなど、高周波の工業利用及び理化学研究用の高周波電源とその高周波利用装置を製造販売しています。 誘導加熱電源は、出力1.2kWから500Kwまで幅広く取り揃えており、特に他に類のない小型化と広い周波数範囲をカバーするため、今まで誘導加熱の適用が困難であったアプリケーションにも応用されています。 プラズマ用電源とＲＦアンプについては、米国の系列会社にてエンジニアリングと製造を行い、販売のほか応用機器の設計製造を行なっています。 半導体装置用プラズマ高周波電源と広帯域増幅器の３０年以上の経験を踏まえ、的確なエンジニアリング業務でお客様の理想を実現します。 機器選定のための加熱テストも初回無償で承っております。