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高周波電源および整合器

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最終更新日:2025年10月24日

トルンプ株式会社
トルンプ株式会社
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エッチング、スパッタリング、CVDで活躍する高周波電源

トルンプの高周波電源は、半導体製造のエッチングやスパッタリングをはじめ、様々なアプリケーションで幅広く使われています。 独自の技術が生み出す高精度な出力制御、高い出力効率と堅牢な設計によりエンドユーザー様における高いスループットや運用コストの削減、省エネを安定的にサポートします。 トルンプは高周波電源にとって欠かせない整合器(マッチボックス)も揃えており、高度なアルゴリズムとプロセスモニターが可能なデジタル制御プラットフォームによって、迅速なインピーダンス整合が可能です。

    電源
高周波電源1.png

高周波電源および整合器

高周波電源1.png
高周波電源1.png 高周波電源2.png 高周波電源_整合器_03_RF3012G2[1].png 高周波電源_整合器_04_RF3024G2[1].png 高周波電源5.png 高周波電源6.png 高周波電源7.png 高周波電源8.png 高周波電源_整合器_09_Match[1].png
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/trumpf/product/

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基本情報

【特長】 ・高い出力精度と出力安定性 ・高い出力効率 ・高度なパルス出力性能 ・高度な異常放電抑制の技術『ArcManagement』 ・自動周波数チューニング機能 ・複数ユニット間の位相同期機能 ・反射波による損傷リスクの低い設計 ・コンパクトな設計 ・効率的な冷却設計(完全水冷を主に採用) ・幅広い入力電圧範囲 ・幅広い通信インターフェース 【周波数別の最大定格出力】 ・60MHz 最大10kW(TruPlasma VHF) ・40.68MHz 最大20kW(TruPlasma VHF) ・27.12MHz 最大20kW(TruPlasma VHF) ・13.56MHz 最大60kW(TruPlasma RF) ・4MHz 最大60kW(TruPlasma RF) ・2MHz 最大3kW(TruPlasma RF) ・350-400kHz 最大1kW(TruPlasma LF)

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用途/実績例

【主要な用途】 ・エッチング ・反応性イオンエッチング(RIE) ・スパッタリング ・プラズマALD ・プラズマCVD(PE-CVD) ・プラズマ表面処理 【主要な業界】 ・半導体・電子部品 ・ソーラー ・工業用コーティング

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トルンプは1923年にドイツで誕生した、「板金加工機」 「レーザ技術」「パワーエレクトロニクス」分野における グローバル・リーディングカンパニーです。 世界で唯一、総合板金加工機メーカーでありながら、 総合レーザ発振器メーカーでもある最大の強みを活かし、 世界中のお客様のものづくりの現場を支えています。 さらに、高速電力制御、デジタルトランスフォーメーションを 推進するソフトウエアなど、お客様の生産効率向上・ビジネス成功に貢献するソリューションを提供しています。 ※社屋写真はドイツ本社の写真です。

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