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絶対光散乱強度からの粒子濃度測定

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最終更新日:2026年05月29日

大塚電子株式会社
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粒子径が異なるポリスチレンラテックスの粒子濃度測定

光の波長より十分に小さい粒子によって散乱される光はレイリー散乱と言われており、この領域の大きさのサンプルの絶対散乱光強度を単一粒子からの散乱光強度で除算することで、粒子濃度が算出されます。 今回、粒子径の異なるポリスチレンラテックス(28nm ~ 2900nm)分散液の絶対散乱光強度を求め、理論式より粒子濃度の算出を試みました、 レイリー散乱領域を超えた大きさまで粒子濃度の評価可能であることがわかりました。また、1μm以上になると測定値から乖離する結果となっています。

    その他理化学機器
ELSZneo.jpg

絶対光散乱強度からの粒子濃度測定

ELSZneo.jpg
ELSZneo.jpg 粒子径が異なるポリスチレンラテックスの粒子濃度.jpg
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基本情報

●希薄から濃厚溶液(~40%)まで幅広い濃度範囲の粒子径・ゼータ電位測定が可能 ●標準フローセルで粒子径とゼータ電位を連続して測定が可能

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用途/実績例

●高分子・化学工業分野  エマルション(塗料・接着剤)の分散・凝集制御  ラテックスの表面改質(医薬用・工業用)  高分子電解質(ポリスチレンスルフォネート・ポリカルボン酸など)の機能性の研究  機能性ナノ粒子  紙・パルプの製紙工程制御およびパルプ添加材の研究 ●セラミックス・色材工業分野  セラミックス(シリカ・アルミナ・酸化チタンなど)  無機ゾルの表面改質・分散・凝集制御  顔料(カーボンブラック・有機顔料)の分散・凝集制御  スラリー状サンプル  浮遊選鉱物の捕集材吸着の研究

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JASIS2026へ出展します

  • セミナー・イベント

2026年9月2日(水)から4日(金)まで、幕張メッセで「JASIS 2026」が開催されます。 大塚電子ではゼータ電位・粒子径・分子量測定システム ELSZneo、光波動場三次元顕微鏡 MINUK等の弊社製品を展示します。 ぜひ弊社ブースにて実機をお近くでご覧ください。 皆様のご来場をお待ちしております。

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大塚電子は、独自の「光」技術を用いて、大塚電子にしか出来ない画期的な新製品を作り出しています。 創業以来積み上げてきた要素技術を融合させながら、医用機器、分析機器、分光計測機器という3つの事業を展開しています。 【医用機器】 親会社である大塚製薬をはじめ、試薬メーカーなどと連携した、臨床検査機器、医療機器の開発・生産を主体とする事業を展開。最新テクノロジーを集結し、人々の健康に貢献しています。 【分析機器】 新素材解析のコアテクノロジーである光散乱の技術を、ナノテクノロジー領域の物性測定に応用。粒子径、ゼータ電位、分子量の測定法を基準に、新素材、バイオサイエンス、高分子化学、さらには半導体や医薬分野などへの展開を図ります。 【分光計測機器】 分光計測技術の代名詞であるマルチチャンネル分光器と、長年にわたって培ってきた解析技術の蓄積による製品群を生み出しています。多様化するニーズに応えながら、幅広い分野へと拡大し続けています。

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