【2026年9月30日(水)～10月2日(金)】「高機能フィルム開発・製造展」出展のお知らせ

希薄系から濃厚系の高精度な粒子径・粒子径分布・ゼータ電位測定　さらに固体表面、分子量の評価まで

『ELSZneo』は、ELSZseriesの最上位機種で希薄溶液から濃厚溶液での粒子径・ゼータ電位測定に加え、 分子量測定を可能にした装置です。また、粒度分布の分離能を向上させるため多角度測定を採用し、 粒子濃度測定やマイクロレオロジー測定、ゲルの網目構造解析も可能にしました。 平板のゼータ電位測定が可能な平板セルユニットは、新開発した高塩濃度対応 コーティングにより、生理食塩水などの生体模擬環境下での測定が可能です。 【特長】 ■希薄から濃厚溶液(～40%)まで幅広い濃度範囲の粒子径・ゼータ電位測定が可能 ■標準フローセルで粒子径とゼータ電位を連続して測定が可能 ■多角度測定により、分離能の高い粒子径分布の測定が可能 ■平板状サンプルのゼータ電位を講演濃度環境下で測定が可能 ■静的光散乱法を用いて粒子濃度の測定が可能 ■動的光散乱法によりマイクロレオロジー測定が可能 ■ゲル試料を複数点測定することによりゲルの網目構造や不均一性の評価が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他計測・記録・測定器

nmオーダーの透明な異物・欠陥の評価が可能！フォーカス不要で高速測定　目視では見えないフィルム表面を可視化・定量化

『MINUK』は、目視では見えない透明フィルム表面を可視化・定量化できる 光波動場三次元顕微鏡です。　 nmオーダーの形状情報を非接触・非破壊・非侵襲で取得可能。ワンショットで 深さ方向の情報も併せて取得することにより、目視では見えない透明フィルム 表面の傷や欠陥の断面形状や三次元形状を可視化し数値化することが可能です。 高速で広範囲をマッピングし情報を得ることができるスティッチング機能に より、観察したい場所を素早く見つけ、詳細情報を取得することが可能です。 【特長】 ■nmオーダーの透明な異物・欠陥の評価が可能 ■1ショットで瞬時に深さ方向の情報を取得 ■フォーカス不要で高速測定が可能 ■非破壊・非接触・非侵襲で測定が可能 ■任意の面を高速でスキャンし測定位置の決定が容易 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 光学顕微鏡

1ポイント1秒測定＆測定エリア最小3μｍ！高性能で使いやすい顕微分光膜厚計

顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚測定と光学定数解析が可能な装置です。 各種フィルムやウェーハ、光学材料などのコーティング膜の厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。 測定時間は1秒/pointの高速測定が可能で初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。 膜厚計のお悩みを「OPTMシリーズ」1台で完全解決します！ 【特長】 ■膜厚測定に必要な機能をヘッド部に集約 ■顕微分光で高精度な絶対反射率測定（多層膜厚、光学定数） ■1ポイント1秒以内の高速測定 ■顕微下で広い測定波長範囲を実現する光学系（紫外～近赤外） ■エリアセンサーによる安全機構 ■初めての方でも光学定数解析が可能な楽々解析ウイザード ■測定シーケンスをカスタマイズ可能なマクロ機能搭載 ■複雑な光学定数も解析可能（複数点解析法） ■300mmステージ対応可能 ■各種カスタマイズに対応　など

• 膜厚計

持ち運び可能なハンディタイプの膜厚測定装置！サンプルを傷つけることもなく測定可能 ＜デモ機を無料貸し出し中＞

『SM-100 series』は、1.1kgと軽く、持ち運びも簡単な膜厚計です。　 膜厚を測定するときの「測りたい“その場”ですぐに測れない」「人によって バラつく測定結果」「測定精度が悪い」といったお困りごとを解決。 最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定可能で、基材(ガラス・プラスチック)を 選ばず、形状のあるサンプルも非破壊で膜厚を測ることができます。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 膜厚計

約1.1kgの持ち運べる膜厚計。最薄0.1μmから最大100μmまで、検量線不要で操作簡単　＜デモ機を無料貸し出し中＞

『SM-100 series』は高精度かつ簡単に持ち運び・操作ができる膜厚計です。　 現場での抜き取り検査や成膜条件の検討にも柔軟に対応が可能。 基材(ガラス・プラスチック)を選ばず、形状のあるサンプルも非破壊で測ることができます。 ■持ち運び可能なハンディタイプ ■高精度測定＆簡単測定 ■多層膜も対応 ■非破壊・非接触測定 ■様々なサンプルを測定 ★高機能フィルム開発・製造展に出展します！　小間番号9-17★ ※詳しくは＜PDFダウンロード＞より資料をご覧ください。 　デモ機を無料貸し出し中！＜お問い合わせ＞よりお申し込みいただけます。

• 膜厚計

食品の品質管理に！ハンディタイプの膜厚測定装置で、非破壊測定を実現。

食品業界の品質管理において、コーティングや包装材の膜厚測定は、製品の品質保持に不可欠です。特に、均一な膜厚は、食品の保存性や安全性を左右する重要な要素となります。しかし、従来の測定方法では、測定に時間がかかったり、サンプルを傷つけてしまう可能性がありました。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能です。非破壊で測定できるため、食品サンプルを傷つける心配もありません。この製品は、食品の品質管理における膜厚測定の課題を解決し、より効率的で正確な品質管理をサポートします。 【活用シーン】 ・食品包装材の膜厚測定 ・コーティングされた食品の膜厚測定 ・品質管理部門での測定 【導入の効果】 ・非破壊測定によるサンプルの有効活用 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上

• 膜厚計

包装材のバリア性を左右する膜厚を、非破壊で手軽に測定！

包装業界では、製品の品質保持のため、包装材のバリア性が重要です。特に、酸素や水分の透過を防ぐための膜厚管理は、製品の賞味期限や品質に大きく影響します。膜厚測定の測定結果のバラつきや測定精度の悪さは、品質管理上の課題となります。SM-100 seriesは、これらの課題を解決し、正確な膜厚測定を実現します。 【活用シーン】 ・食品包装、医薬品包装、工業製品包装におけるバリア性評価 ・包装材メーカーでの品質管理 ・研究開発部門での材料評価 【導入の効果】 ・非破壊測定によるサンプルへの影響を最小限に ・迅速な測定による工程管理の効率化 ・測定結果の安定化による品質向上

• 膜厚計

持ち運び可能なハンディタイプの膜厚測定装置！絶縁膜の膜厚測定に

電子部品業界において、絶縁膜の品質管理は製品の信頼性を左右する重要な要素です。絶縁膜の膜厚測定は、製品の性能を維持し、不良品の発生を防ぐために不可欠です。しかし、従来の測定方法では、測定場所の制約や測定結果のばらつき、測定精度の問題といった課題がありました。SM-100 seriesは、これらの課題を解決し、絶縁膜の品質管理を効率化します。 【活用シーン】 ・電子部品製造における絶縁膜の膜厚測定 ・品質管理部門での膜厚測定 ・研究開発部門での膜厚評価 【導入の効果】 ・測定場所を選ばず、どこでも測定可能 ・測定結果のばらつきを抑制 ・高精度な膜厚測定を実現 ・非破壊測定によるサンプルの有効活用

• 膜厚計

表面処理の膜厚測定を、手軽に、高精度に。デモ機無料貸し出し中！

精密機械業界の表面処理工程では、製品の品質を左右する膜厚管理が重要です。均一な膜厚は、耐摩耗性、耐食性、外観品質を向上させるために不可欠です。しかし、従来の測定方法では、測定場所の制約、測定結果のばらつき、測定精度の問題といった課題がありました。SM-100 seriesは、これらの課題を解決し、表面処理工程における膜厚測定の効率化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 * 金属部品の塗装膜厚測定 * プラスチック部品のコーティング膜厚測定 * 電子部品の表面処理膜厚測定 * 研究開発における膜厚評価 【導入の効果】 * 測定時間の短縮 * 測定結果の安定化 * 品質管理の向上 * 不良品の削減

• 膜厚計

耐熱コーティングの膜厚測定に！非破壊で測定可能

航空宇宙業界では、耐熱性コーティングの品質管理が重要です。高温環境下での部品の性能を維持するためには、コーティングの膜厚が均一で、適切な厚さを保っている必要があります。膜厚が不均一であったり、薄すぎると、熱による劣化が早まり、部品の寿命を縮める可能性があります。逆に厚すぎると、重量が増加し、燃費効率が悪化する可能性があります。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、非破壊で膜厚を測定できます。これにより、航空宇宙部品の品質管理を効率化し、製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・耐熱コーティングされた航空機部品の膜厚測定 ・ロケットエンジンの耐熱材の膜厚測定 ・宇宙ステーションの断熱材の膜厚測定 【導入の効果】 ・非破壊測定による検査時間の短縮 ・測定結果のばらつきを抑制 ・品質管理の向上による製品信頼性の向上

• 膜厚計

生体適合性材料の膜厚測定に。ハンディタイプの膜厚計　

医療機器業界では、インプラントや医療用デバイスのコーティングなど、生体適合性材料の膜厚管理が製品の安全性と性能を左右する重要な要素となります。特に、材料の均一な膜厚は、生体組織との親和性や耐久性に大きく影響し、不適切な膜厚は、製品の早期劣化や拒絶反応を引き起こす可能性があります。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、測定したい場所ですぐに膜厚を測定できます。最薄0.1μmまで検量線不要で測定可能で、非破壊で測定できるため、サンプルを傷つける心配もありません。これにより、品質管理の効率化と精度の向上が期待できます。 【活用シーン】 ・インプラント表面のコーティング膜厚測定 ・医療用デバイスのコーティング膜厚測定 ・生体適合性材料の研究開発 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定結果のばらつきを抑制 ・非破壊測定によるサンプルへの影響を軽減

• 膜厚計

自動車コーティングの膜厚測定を、手軽に、正確に。デモ機無料貸し出し中！

自動車業界のコーティング工程では、保護膜の品質管理が重要です。特に、耐摩耗性や耐候性を向上させるためには、コーティング膜厚の均一性が求められます。膜厚が不均一な場合、性能の低下や外観不良につながる可能性があります。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、測定したい“その場”ですぐに膜厚を測定できます。人による測定結果のバラつきを抑え、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能です。基材を選ばず、形状のあるサンプルも非破壊で膜厚を測ることができます。 【活用シーン】 ・自動車ボディのコーティング膜厚測定 ・バンパーやパーツの塗装膜厚測定 ・コーティング品質の検査 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定結果の安定化 ・品質管理の向上

• 膜厚計

反射防止膜の膜厚測定に！ハンディタイプの膜厚計

光学部品業界では、製品の性能を左右する反射防止膜の正確な膜厚測定が求められます。特に、光の透過率や反射率を精密に制御する必要がある場合、膜厚のわずかな差異が製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。測定結果のバラつきや測定精度の低さは、歩留まりの低下や不良品の増加につながりかねません。SM-100 seriesは、持ち運び可能なハンディタイプで、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能です。光学部品の製造プロセスにおける膜厚測定の課題を解決します。 【活用シーン】 ・反射防止膜の膜厚測定 ・光学フィルターの膜厚測定 ・レンズコーティングの膜厚測定 【導入の効果】 ・測定結果の信頼性向上 ・歩留まりの改善 ・品質管理の効率化

• 膜厚計

太陽電池製造の効率化に貢献！非破壊で膜厚測定

太陽電池業界では、製品の品質と効率を向上させるために、膜厚の正確な測定が求められます。特に、太陽光の吸収効率を左右する膜厚の均一性は、製品の性能を大きく左右します。測定の遅延や精度の低さは、生産効率の低下や品質問題につながる可能性があります。当社のスマート膜厚計 SM-100 seriesは、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能で、非破壊で膜厚を測ることができます。これにより、太陽電池製造における品質管理と生産効率の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・太陽電池セルの膜厚測定 ・太陽電池モジュールの膜厚測定 ・製造ラインでの品質管理 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上 ・不良品の削減

• 膜厚計

持ち運び可能なハンディタイプの膜厚測定装置！サンプルを傷つけずに測定

半導体業界の成膜管理においては、高品質な製品を安定的に製造するために、膜厚の正確な測定が不可欠です。特に、薄膜の成膜プロセスにおいては、膜厚のわずかな差異が製品の性能に大きな影響を与える可能性があります。測定結果のばらつきや精度の低さは、歩留まりの低下や不良品の増加につながり、大きな損失を招く可能性があります。SM-100 seriesは、最薄0.1μmまで検量線不要で膜厚測定が可能で、基材を選ばず、形状のあるサンプルも非破壊で膜厚を測ることができます。 【活用シーン】 ・半導体製造工程における成膜プロセスの品質管理 ・研究開発における薄膜材料の評価 ・製造現場での迅速な膜厚測定 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定結果の安定化 ・不良品の削減

• 膜厚計

nmオーダーの透明な異物・欠陥を評価！化粧品の品質管理に貢献

化粧品業界では、製品の品質を保証するために、成分の正確な分析が求められます。特に、製品の安全性や効果を左右する微細な異物や欠陥の検出は重要です。目視では見えない成分の異常を見つけることは、製品の信頼性を高めるために不可欠です。光波動場三次元顕微鏡 MINUKは、nmオーダーの形状情報を非接触・非破壊で取得し、化粧品成分の微細な構造を可視化することで、品質管理をサポートします。 【活用シーン】 ・化粧品原料の異物検査 ・製品の表面欠陥評価 ・成分の三次元構造解析 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・不良品の削減 ・研究開発の効率化

• 光学顕微鏡

nmオーダーの透明な異物・欠陥を評価。フィルム表面を可視化・定量化。

材料科学分野では、新素材の開発や既存材料の性能評価において、材料内部の微細な構造や表面状態を正確に把握することが重要です。特に、透明フィルムや薄膜材料においては、目視では確認できない微細な傷や欠陥が製品の品質や性能に大きな影響を与える可能性があります。これらの課題を解決するためには、非破壊で、かつ高精度な形状測定技術が不可欠です。光波動場三次元顕微鏡 MINUKは、nmオーダーの形状情報を非接触・非破壊・非侵襲で取得し、透明フィルム表面の傷や欠陥の断面形状や三次元形状を可視化・数値化することで、材料の構造解析を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・透明フィルム、薄膜材料の表面評価 ・異物や欠陥の検出 ・材料の構造解析 【導入の効果】 ・非破壊検査による材料の品質管理向上 ・微細な欠陥の早期発見による不良品率の低減 ・材料開発における迅速なフィードバック ・研究開発の効率化

• 光学顕微鏡

細胞培養における異物や欠陥を可視化し、培養環境を最適化

再生医療分野の細胞培養においては、細胞の品質を左右する異物や培養容器の表面状態の評価が重要です。培養環境のわずかな変化が、細胞の増殖や機能に大きな影響を与えるため、表面の微細な傷や異物の存在は、細胞培養の成功を左右する要因となります。MINUKは、nmオーダーの形状情報を非接触・非破壊で取得し、細胞培養における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・細胞培養容器の表面状態評価 ・細胞凝集塊の観察 ・培養液中の異物検出 【導入の効果】 ・細胞培養の品質向上 ・培養プロセスの最適化 ・研究効率の向上

• 光学顕微鏡

nmオーダーの透明な異物・欠陥を評価し、エネルギー材料の品質向上に貢献。

エネルギー業界では、高性能な材料開発と品質管理が不可欠です。特に、太陽電池や燃料電池などの分野では、材料の微細な欠陥が性能に大きな影響を与えるため、詳細な評価が求められます。MINUKは、nmオーダーの形状情報を非接触・非破壊で取得し、材料表面の傷や欠陥を可視化・数値化することで、材料評価を強力にサポートします。 【活用シーン】 * 太陽電池セルの表面評価 * フィルム状材料の異物・欠陥検査 * コーティング膜の厚さ・均一性評価 * エネルギーデバイスの材料開発 【導入の効果】 * 材料の品質向上による製品性能の向上 * 不良品の削減によるコスト削減 * 開発期間の短縮 * 非破壊検査による材料の有効活用

• 光学顕微鏡

ゼータ電位・粒子径測定システムを用いたエクソソームの粒子径・粒子濃度・ゼータ電位測定

エクソソームは、生体メカニズムの理解、診断、DDSなどへの応用が期待されています。そのエクソソームを適切に分離し精製することは、特性の理解や臨床応用へ発展させる上で非常に重要です。精製されたエクソソームの粒子径・粒子数の確認は実験のファーストステップとなります。 ELSZneoでは、粒子径・粒子濃度・ゼータ電位を測定することができます。粒子径は動的光散乱法、粒子濃度には静的光散乱法、ゼータ電位は電気泳動光散乱法を用いて結果を得ることができます。エクソソーム表面の電荷（ゼータ電位）の違いは粒子挙動にも大きく影響するため、近年非常に注目されている指標の一つです。ELSZneoは、粒子径・粒子濃度・ゼータ電位を測定することで、エクソソームの性質を詳細に解析することが可能です。 エクソソーム測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 分析機器・装置
• 光散乱光度計

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いた細菌から生産される細胞外膜小胞評価

細菌から生産される細胞外膜小胞は、細菌間のコミュニケーション、遺伝子の水平伝播、病原性細菌の毒性発現、など多様な機能を担うことから注目を集めています。その膜小胞は特にワクチンとしての利用やドラッグデリバリーシステム(DDS)におけるキャリアとしての利用に期待されており、その特性評価も重要になっています。 ELSZneoでは、粒子径・粒子濃度・ゼータ電位を測定することができます。今回、親株のMV (parent)と表層タンパク質欠損株のMVの粒子径分布、粒子濃度、ゼータ電位を測定しました。その結果から、本タンパク質の存在が凝集体形成抑制に寄与していることが推察できる。 エクソソーム測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 光散乱光度計
• 表面電位測定

ゼータ電位・粒子径測定システムを用いてＣＭＰスラリーの非イオン性界面活性剤添加によるゼータ電位・粒子径の評価

半導体製造におけるCMPでは、半導体ウェハや金属面を研磨する場合に金属酸化物（シリカ粒子、アルミナ粒子）がよく利用されています。シリカ粒子,アルミナ粒子などの金属酸化物は種々の要因（pH、添加剤など）によって粒子の分散状態が異なり、粒径やゼータ電位を指標として分散状態をコントロールすることが非常に重要になっています。 今回、CMPスラリーに非イオン性界面活性剤を添加し、添加前後のゼータ電位および粒子径の測定をおこないました。 ＣＭＰスラリーの非イオン性界面活性剤添加によるゼータ電位・粒子径の制御評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

ゼータ電位からCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価

半導体における洗浄プロセスでは、CMPスラリーより表面に吸着するパーティクルや金属不純物、有機物の物理的もしくは、化学的洗浄が行われます。物理洗浄によってパーティクルを剥離した後に洗浄後の再付着を防止することが必要となります。これらの研磨および洗浄条件の検討では、CMPスラリーおよびウェーハのゼータ電位を測定し、スラリーとウェーハの静電相互作用を評価することが有効です。 今回は、スラリーとウェーハそれぞれのpHタイトレーションを行い、ゼータ電位測定をおこないました。 CMPスラリーとウェーハの静電相互作用の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 分析機器・装置

ゼータ電位測定でCMPスラリーの分散・安定性を評価

半導体ウェーハの研磨工程におけるCMPスラリーは、粒子径を均一に制御することで、安定した加工性能が得ることができます。また、凝集物などの粗大粒子が含まれると、研磨レートの変化やスクラッチなどの表面欠陥の要因となるため、粒子径の管理が重要です。そこで、CMPスラリーでは、高い分散性が求められており、ゼータ電位測定から最適な添加剤などの分散条件を検討することができます。 今回は、SiO2スラリーに10～300mMのNaClを添加し、そのゼータ電位および粒子径測定を行いました。 CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

CMPスラリーの等電点測定から分散性を評価

CMPスラリーは、研磨対象の材料や研磨条件によって、研磨に用いる砥粒を選択する必要があります。CMPの加工特性では、CMPスラリーの粒子径やpH、砥粒の純度などが影響します。そこで、CMPスラリーの分散性やスラリーと研磨材料との相互作用を評価する上で、ゼータ電位の測定が重要です。 今回は、砥粒の異なるスラリーをpHタイトレータを用いてpHタイトレーションを行い、各砥粒の等電点測定を行いました。 砥粒の異なるCMPスラリーの等電点測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

研磨パッドの表面ゼータ電位測定

半導体ウェーハの研磨工程におけるCMPスラリーは、ウェーハ、スラリー、研磨パッドの組み合わせとして使用されパッド表面の粗さによってスラリーを保持し、ウェーハ表面の被膜が研磨されます。パッド表面の目詰まりは、スクラッチなどの欠陥に寄与し、パッド表面の特性は、研磨性能に寄与すると考えられています。そこで研磨パッドおよびスラリーのゼータ電位を測定し、静電相互作用や吸着特性を検討することは有効であると考えられます。 　今回、発泡ポリウレタンの研磨パッドを測定サンプルとし、各pHにおける表面ゼータ電位を行いました。 研磨パッドの表面ゼータ電位測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

粒子径測定装置を用いた種類の異なるリポソームの粒子径評価

リポソームは膜を構成する層数と大きさにより、小さい一枚膜リポソーム（ SUV; 100nm以下）、大きな一枚膜リポソーム（ LUV; 100-500nm）、そして多重層リポソーム（MLV; 200-1000nm）に大別されます。 　これら3種（それぞれ超音波処理法、逆相蒸発法、ボルテックス処理法によって調製）のリポソームを動的光散乱法を用いて、粒子径測定を行いました。 種類の異なるリポソームの粒子径評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• その他検査機器・装置
• 分析機器・装置

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの評価

リポソームの体内動態を理解する上で粒子径やゼータ電位などの物性評価は非常に重要です。 リポソームを生理食塩水に分散させポアサイズ0.2μｍのフィルターでろ過した後、動的光散乱法により粒子径を電気泳動光散乱法によりゼータ電位の測定を行いました。 DDSナノ材料リポソーム粒子径・ゼータ電位測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 分析機器・装置

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの等電点評価

ゼータ電位がゼロ（粒子の表面電位がゼロ）になるpHを等電点といい、コロイド粒子は等電点近傍のpHに近づけると、静電的な反発力がなくなり凝集しやすくなります。安定した分散状態を実現するためには、溶液のｐHを等電点からできるだけ離し、ゼータ電位の絶対値を高める必要があります。 今回は生理食塩水にリポソームを分散させリポソームの粒子径とゼータ電位のpH依存性を測定し、分散安定性を評価しました。 DDSナノ材料リポソームのと等電点評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

• 分析機器・装置

有機顔料の分散性を高濃度状態で評価

各種有機顔料はプリンタ用インクなどに使用されています。インクが凝集し固まってしまうと色ムラにつながるため、製品寿命や品質向上のためにインクの分散性条件の検討に粒径分布が測定されています。今までは溶媒で希釈して測定されていましたが、このような処理では濃度が薄まり、本来の特性から異なる評価がされてしまうことが考えられます。 図のデータは実際使用している顔料の原液あるいは原液に近い高濃度状態で粒径分布を測定した例です。

• 分析機器・装置

高濃度試料のゼータ電位・粒子径測定による分散安定性評価

一般に市販されているプリンター用インクは、分散安定性を向上させるために、少量の分散剤が添加されています。これらインクの分散性を評価するために、ゼータ電位や粒子径測定が行なわれています。しかし、今までは溶媒のみで希釈して測定されていました。このような処理では添加剤濃度が薄まり、本来の特性から異なる評価がされてしまうことが考えられます。この問題を解決するために、超遠心分離機で分離させた上澄み液を希釈溶媒として使用し添加剤濃度が変わらない状態でゼータ電位および粒子径測定を試みました。

• その他理化学機器

コロイド分散系における無機粒子のｐHタイトレーションによる等電点の評価

多くのコロイド分散系においては、ｐHを変化させることによって、様々な特性が現れます。ｐHタイトレーション測定は、単一測定条件下は得られなかった材料の物性情報が得られます。この方法は、再現性の高いプロセスコントロールの追及に不可欠で、無機粉体、セラミックス、汚水処理、洗浄、繊維、化学工業、バイオ、食品等の分野で幅広く利用されています。

• 分析機器・装置

O/Wエマルションの粒子径測定

水の中に油が分散するものをO/W(Oil-in-water)エマルション、油の中に水が分散するものをW/O(Water-in-oil)エマルションと区分されます。これらエマルションは、食品、化粧品、塗料、医薬品などで用いられています。その粒子径および分散性は、製品の機能性や安定性を決める因子として重要です。今回、エマルションの測定例として、0.1wt%のドデシル硫酸ナトリウム(SDS)を用いて大豆油を0.01vol%に調製したものを溶媒とし、超音波ホモジナイザーを用いてO/Wエマルションを作成し超音波処理時間を0.5 ～ 10分間と変化させ粒子径測定を行いました。超音波処理時間が。2 ～10分では、処理時間が増えるごとに平均粒子径および多分散指数が減少しています。このことから長時間超音波処理を行うことでより微細で単分散なエマルションとなっていることが分かります。このように粒子径測定を行うことで作成したエマルションが目的の粒子径であるかの確認や分散性の評価が可能です。

• その他計測・記録・測定器

後方・側方・前方の3角度での動的光散乱測定で分離能を向上

通常の動的光散乱測定では後方か側方のいずれか1方向の散乱角度で測定を行い、粒子径を求めますが、多角度測定では後方・側方・前方の3角度で動的光散乱測定を行います。各角度で測定した散乱光強度の自己相関関数に対して最適解となる粒子径分布を解析します。これにより、１角度での粒子径分布解析では困難であった隣接した粒子径分布の分離能が向上し、粒子径分布の分離が可能になります。

• その他理化学機器

粒子径が異なるポリスチレンラテックスの粒子濃度測定

光の波長より十分に小さい粒子によって散乱される光はレイリー散乱と言われており、この領域の大きさのサンプルの絶対散乱光強度を単一粒子からの散乱光強度で除算することで、粒子濃度が算出されます。 今回、粒子径の異なるポリスチレンラテックス（28nm ～ 2900nm）分散液の絶対散乱光強度を求め、理論式より粒子濃度の算出を試みました、 レイリー散乱領域を超えた大きさまで粒子濃度の評価可能であることがわかりました。また、1μｍ以上になると測定値から乖離する結果となっています。

• その他理化学機器

光干渉法を用いた顕微分光膜厚計（OPTM）の測定原理

光干渉法と自社製高精度分光光度計により、非接触・非破壊かつ高速高精度での膜厚測定を可能にしました。 光干渉法は、分光光度計を利用した光学系によって得られた反射率を用いて光学的膜厚を求める方法です。 図１のように金属基板上にコーティングされた膜を例にとると対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過した光が基板（金属）や膜境界面で反射します（R2）。この時の光路差による位相のずれによっておこる光干渉現象を測定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法が光干渉法です。

• 分析機器・装置

傾斜モデルを用いた薄膜の構造解析

OPTMでは単一層内に存在する厚み方向で屈折率が変化する膜の解析に対応しております。

• 分析機器・装置

反射分光法と他の測定手法の比較

反射分光法は他の膜厚測定方法と比較して、薄膜対応、測定時間、非接触性、前処理や検量線不要、多層膜対応、光学定数解析などの点でメリットがございます。 一度お試し測定をしてみてはいかがでしょうか？

• 分析機器・装置

ハードコートの膜厚測定

近年、様々な機能を持つ高機能フィルムを用いた製品が一般に普及しており、用途によってはフィルム表面に耐摩擦、耐衝撃、耐熱、耐薬品などの性能を持つ保護フィルムが必要になることもあります。保護フィルム層としてハードコート(HC)膜を製膜することが一般的ですが、HC膜の厚みによって保護フィルムとして機能しなかったり、フィルムにそりが生まれたり、見た目のムラや歪みの原因になるため、HC層の膜厚値を管理する必要があります。

• 分析機器・装置

表面粗さを考慮した膜厚解析

サンプル表面に粗さがある膜の場合は、膜の理論反射率と異なるため解析が難しくなります。 OPTMでは粗さ層はEMA法（有効媒質近似法）でモデル化して評価することが可能です。

• 分析機器・装置

屈折率の波長分散性を考慮した厚膜解析

屈折率の波長分散を考慮したFFT法によって、厚膜においても従来法に比べ、より真値に近い解析結果が得られます。（特許取得済　第4834847号）

• 分析機器・装置

反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定

半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2（二酸化シリコン）やSiN（窒化シリコン）が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。

• 分析機器・装置

複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定

従来法では困難であった極薄膜領域下(100nm以下)でのnk解析ですが、複数点解析機能により、精度良くnk解析が可能です。（特許取得済　第5721586号） 最小二乗法でフィッティングをして膜厚値（ｄ）を解析するには材料のnkが必要です。nkが未知の場合、d とnkの両方を可変パラメータとして解析します。　しかしながら、ｄ が100nm以下の極薄膜の場合、ｄ とnkとを分離することができず、そのため精度が低下して正確な ｄ が求められないことがあります。　 このような場合、ｄ の異なるサンプルを複数測定し、nkが同一であると仮定して同時解析（複数点同一解析）をします。これにより精度よくnkを求め、正確な ｄ を求めることが可能です。

• 分析機器・装置

超複屈折フィルムを高速・高精度に測定できる

超複屈折フィルムなど、従来方式では10,000nｍ程度までしか測定できなかったが、高精度多波長測定および独自のアルゴリズムにより60,000nmまで測定可能。また、多波長をワンショットで測定できるため約１秒で測定可能。

• その他 計測・測定機器

薄膜から厚膜まで高精度に測定が可能な顕微分光膜厚計『OPTM』

反射率スペクトルは、同種材質の膜であっても、膜厚値の違いにより図のような異なる波形になります。 膜厚が薄い場合、図左側のようなスペクトルを示し、より厚くなると図中央から右側のようなスペクトルへと変化します。 これは光干渉現象によるものです。 大塚電子の膜厚計では高精度で高い波長分解能を持つ分光計測が可能で、正確に絶対反射率スペクトルを求めることができます。 これにより材質の持っている光学定数（n：屈折率、k：消衰係数）の解析も可能になります。

• 分析機器・装置

さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定

DLC(diamond‐like carbon)はアモルファス（非晶質）な炭素系材料です。高硬度・低摩擦係数・耐摩耗性・電気絶縁性・高バリア性・表面改質やDLCの厚み測定は断面を電子顕微鏡にて観察する破壊検査が一般的でしたが、大塚電子の光干渉式膜厚計であれば非破壊かつ高速に測定が可能です。 独自の顕微鏡光学系を採用することで、形状のあるサンプルの実測定が可能になりました。

• 分析機器・装置

反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定

フィルムやガラス等の透明な基板サンプルの場合、基板の裏面からの反射の影響を受けると正確な測定ができません。 OPTMシリーズの反射対物レンズを使用すると、物理的に裏面反射を除去することができ、透明基板でも高精度に測定ができます。 また、フィルムやSiC等の光学異方性をもつサンプルに対してもその影響を受けること無く上面の膜のみの測定を行うことが可能です。 （特許取得済　第5172203号）

• 分析機器・装置

傾斜モデルを用いたITOの構造解析

液晶ディスプレイなどに用いられる透明電極材料であるITO（Indium-tin-oxide）は、製膜後のアニール処理（熱処理）によって導電性や色味が向上します。その際、酸素状態や結晶性も変化しますが、この変化は膜の厚みに対して段階的に傾斜変化することがあり、光学的に組成が均一な単層膜として見なすことができません。 このようなITOに対し、傾斜モデルを用いて、上部界面と下部界面のnkから、傾斜の度合いを測定した事例を紹介します。

• 膜厚計
• その他検査機器・装置
• 光学測定器

広ダイナミックレンジ！高速・高再現性、軽量・コンパクトが特長的　

MCPD seriesは、紫外から近赤外領域対応の多機能マルチチャンネル 分光検出器です。 最短5msで分光スペクトル測定ができ、標準装置のオプティカルファイバー により、サンプル種を特定することなく、さまざまな測定系に対応。 また、顕微分光、光源発光、透過・反射測定をはじめ、ソフトウェアとの 組み合わせにより、物体色評価、膜厚測定などにも対応可能です。 【特長】 ■広いダイナミックレンジを有し、全光測定に好適 ■低迷光機能搭載により、UV評価に好適 ■最短5msecから65secまでの露光時間、微弱光測定、高速測定、 　インライン測定など、幅広い測定に好適 ■スクランブルファイバーの採用により、高再現性を実現 ■軽量・コンパクトな縦置きタイプ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分光分析装置

ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面フィルム検査を実現！

「ラインスキャン膜厚計(インラインタイプ)」は、インラインでの フィルム生産現場においてフィルムの膜厚を全幅・全長測定できる装置です。 独自の分光干渉法に新たに開発した高精度膜厚演算処理技術を組み合わせる ことで、最短0.001秒毎の測定間隔で500mm幅(1台使用時)のフィルムの 膜厚測定が可能。 また、膜厚測定の専門メーカーだからできる充実サポートや、バタつきに 強い光学系を採用しているなどといった特長が備わっています。 【特長】 ■ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面フィルム検査を実現 ■膜厚測定の専門メーカーだからできる充実サポート ■高速・高精度に測定が可能 ■バタつきに強い光学系を採用 ■幅広のサンプル(TD方向に最大10m測定可能) ■ハード・ソフト共にオリジナル設計 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 膜厚計

全面を高速かつ高精度に膜厚測定可能！

「ラインスキャン膜厚計(オフライン)」は、フィルムなどの研究開発や 品質管理の抜き取り検査に、オフラインで簡単に面内膜厚ムラ検査が可能な 装置です。 フィルムなどの面内膜厚ムラを検査することができ、全面を高速かつ高精度 に測定可能。 また、測定範囲は0.1～300μmで、測定幅は250mm。ハード・ソフト共に オリジナル設計となっております。 【特長】 ■フィルムなどの面内膜厚ムラを検査可能 ■全面を高速かつ高精度に測定可能 ■膜厚測定の専門メーカーだからできる充実サポート ■分光測定による高精度な膜厚測定 ■ハード・ソフト共にオリジナル設計 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 膜厚計

ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面検査を実現！

半導体の研究開発や生産現場において、ウェーハ基板上の薄膜を全面測定できる装置です。 独自の分光干渉法と新たに開発した高精度膜厚演算処理技術を組み合わせることで、12inchウェーハの面内分布を高速に測定することが可能です。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 膜厚計

光源や照明器具の配光特性を測定する装置です　

自社開発分光器と２軸のゴニオメータを使用することで照明器具やランプの配光データと一緒に光源色データを高精度に測定することを実現しました。室内照明から投光器まで幅広い照明器具を取り扱え、マルチパーパスな要求に応える装置です。角度ごとの分光測定でも照度計タイプのV(λ)受光器と同等の高速測定を実現しました。配光測定結果から照明率解析も可能です。また、球帯係数法により分光全放射束と全光束および色度、色温度などの光源色データを求めることができます。本システムは、北米照明学会（IES）のLM-75のType B、Type Cに対応しています。更に、システムの校正に欠かせない光度標準ランプは、光のJCSS登録事業者である弊社の光計測評価センターより供給可能です。

• 分析機器・装置

インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊で透過率、吸光度、色などの測定が可能

各種フィルム上コート膜などの透過率測定および吸光度、色などの測定が可能です。 仕様により膜厚測定も可能であり、測定可能膜厚範囲は　65nm～92μmと薄膜から厚膜まで対応しております。（屈折率1.5の場合） 測定原理は分光干渉方式のため、高い測定再現性を実現しつつ多層厚み測定にも対応しております。独自アルゴリズムの採用により高速でリアルタイムにモニタリングが可能なため、インラインフィルムモニターとして最適なシステムをご提案いたします。 【特長】 ■プロセス中の薄膜高速測定に最適 ■最短露光時間1ms～　※仕様による ■リモート測定に対応 ■膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分光分析装置

半導体工場の膜厚ニーズに合わせたインテグレーションが可能！

『GS-300』は、小フットプリント仕様のロードポート対応膜厚測定 システムです。 φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応。 ウェーハに埋め込んだ配線パターンアライメントを実現します。 また、半導体プロセスの高スループット要求に対応しております。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応 ■ウェーハに埋め込んだ配線パターンアライメントを実現 ■半導体プロセスの高スループット要求に対応 ■小フットプリント仕様 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 半導体検査/試験装置
• 膜厚計

光干渉法の採用により、非接触・非破壊膜厚で膜厚測定が可能

測定可能膜厚範囲は　65nm～92μmと薄膜から厚膜まで対応しております。（屈折率1.5の場合） 測定原理は分光干渉方式のため、高い測定再現性を実現しつつ多層厚み測定にも対応しております。独自アルゴリズムの採用により高速でリアルタイムにモニタリングが可能なため、インラインフィルムモニターとして最適なシステムをご提案いたします。 【特長】 ■プロセス中の薄膜高速測定に最適 ■最短露光時間1ms～　※仕様による ■リモート測定に対応 ■膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分光分析装置

インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊で反射率、色などの測定が可能

各種フィルム上コート膜などの反射率測定および膜厚などの測定が可能。 測定可能膜厚範囲は　65nm～92μmと薄膜から厚膜まで対応しております。（屈折率1.5の場合） 測定原理は分光干渉方式のため、高い測定再現性を実現しつつ多層厚み測定にも対応しております。独自アルゴリズムの採用により高速でリアルタイムにモニタリングが可能なため、インラインフィルムモニターとして最適なシステムをご提案いたします。 【特長】 ■プロセス中の薄膜高速測定に最適 ■最短露光時間1ms～　※仕様による ■リモート測定に対応 ■膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分光分析装置

独自の分光器だからできるリタデーションの高精度測定！

『RETS-100nx』は、OLED用偏光板、積層位相差フィルム、IPS液晶位相差 フィルム付偏光板など、多種多様なフィルムに対応したリタデーション測定 装置です。 超高Re.60000nmに対応の高速・高精度測定を実現し、フィルムの積層状態を "剥がさず、非破壊"で測定することが可能。 さらに、操作面でもかんたんソフトウェアや、サンプルの置き直しによる ズレに対応した補正機能を搭載し、手軽に高精度な測定ができます。 【特長】 ■独自の分光器だからできる高精度測定 ■超複屈折フィルムを高速・高精度に測定できる ■剥がさず、非破壊でさまざまなフィルムの積層状態を測定できる ■サンプル設置がズレていても手軽に再現性良く測れる ■測定時間と処理時間が大幅短縮 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他 計測・測定機器

光ファイバーにより自由な測定系が可能　LED生産工程での光学特性を高速で評価

『LE Series』は、生産ラインの制御信号との同期が可能な 高速LED光学特性モニターです。 光ファイバーにより自由な測定系が可能。最短2ms～での スペクトル測定を実現(LE-5400)します。 また、測定・演算・評価の1サイクルが従来製品に比べて 半分以下のハイスピードタイプもラインアップしております。 【特長】 ■生産ラインの制御信号との同期が可能 ■光ファイバーにより自由な測定系が可能 ■最短2ms～でのスペクトル測定を実現(LE-5400) ■測定・演算・評価の1サイクルが従来製品に比べて半分以下の 　ハイスピードタイプもラインアップ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 光学測定器
• LED照明
• 光源・照明

各種ウェーハの厚み測定や、各種研削・研磨・貼り合わせなどへのプロセスへの組み込みに！　

『SF-3』は、ウェーハ等の研削研磨プロセスにおいて、非接触でウェーハや 樹脂の厚みを超高速・高精度に測定を行う、分光干渉式ウェーハ膜厚計です。 光学式により非接触・非破壊での厚み測定ができ、高い測定再現性を実現し、 高速でリアルタイムに研磨モニタも可能です。 また、長いWD(ワークディスタンス)を実現し、機器への組み込みが容易で 多層厚み測定も可能です。 【特長】 ■光学式により非接触・非破壊での厚み測定が可能 ■高い測定再現性を実現 ■高速でリアルタイムに研磨モニタが可能 ■長いWD(ワークディスタンス)を実現し、機器への組み込みが容易 ■ホスト機器からLANを使用したTCP/IP通信で制御 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 膜厚計

IESNAのLM-79とLM-80に準拠した測定システム！分光全放射束測定の様々な要望に対応

積分半球仕様の「HM series」は、 光源の点灯姿勢が変更できるため、 実使用条件下での測定が可能。発光部以外を積分空間より排除、吸収誤差 を解消します。 また、積分球仕様の「FM series」は、積分球に設置した補正用ランプを 使用し、自己吸収を補正するほか、紫外域・近赤外域にも対応します。 【HM seriesの特長】 ■積分空間の半減で明るさ(感度)が2倍 ■面発光光源の分光全放射束測定に好適 ■発光面以外を積分半球の外に配置できるため、サンプルの温調が容易 　(高出力光源にも対応) ■サンプル光源自身の影の影響を排除できるため、大型サンプルに好適 　(積分球直径の1/3まで対応) 【FM seriesの特長】 ■積分半球仕様と同様に2400mmの直管光源の測定が可能 ■積分球に設置した補正用ランプを使用し、自己吸収を補正 ■紫外域・近赤外域にも対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分光分析装置

LED単体から照明器具まで幅広い光源の全光束測定が可能

積分球と分光器との組み合わせで、照明器具や各種ランプの分光全放射束、全光束から演色性評価などの光源色評価まで幅広く対応可能です。ダウンライトなどの2π配光光源の測定に有効な積分半球（HalfMoon）を使ことで加熱冷却をコントロールして温調しながらの測定が容易に実施できます。また、直流・交流電源をコントロールするようにシステムアップすることで、L-I-V測定、パルス幅変調（PWM）調光などを含むパルス点灯測定、温度特性測定などが一括制御下で面倒な操作が不要になります。測定部である積分球と積分半球の大きさは、測定する照明器具やランプの大きさや形状に応じてφ250mmからφ2000mmまでラインアップしています。検出器部である分光器には広いダイナミックレンジを有するMCPD-9800シリーズを採用しており、数ルーメンの低強度ランプからワットクラスのハイパワーレーザー光源まで対応可能です。なお、本システムは、北米照明学会（IES）のLM-79とLM-80とに準拠しています。

• 分析機器・装置

紫外域でも高精度な測定を実現！

『MCPD series』は、紫外から可視と幅広い波長範囲をカバーする 紫外放射照度測定システムです。 ソフトウェアでサンプル点灯電源、測定計器を一括制御、 L-I-V測定、パルス点灯測定、サンプル温調測定にも対応可能。 【特長】 ■装置校正用の標準ランプはJCSS校正事業者登録の自社部門より供給 ■光合成研究に欠かせないPFD、PPFDも測定可能 ■高斜入射特性など用途にあった照度ヘッドを選択可 ■紫外から可視と幅広い波長範囲をカバー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他電子計測器
• その他計測・記録・測定器
• 光源・照明

分光放射強度の角度分布を測定し、配光特性(光度・色度など)を評価！　

『GP series』は、最大2400mmのLED照明器具の配光測定に対応した 分光配光測定システムです。 角度ごとの分光分布測定結果から分光全放射束、全光束、色度、 色温度などを計算可能。 また、オプションで紫外域・近赤外域の配光測定にも対応できるほか、 国家基準にトレーサブルな校正サービスを提供(JCSS校正サービス)します。 【ラインアップ】 ■GP-500 ■GP-1100 ■GP-2000　 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分光分析装置

希薄系から濃厚系まで、医薬品製剤の粒子径・ゼータ電位を測定

医薬品業界では、製剤の品質と有効性を保証するために、製剤の安定性評価が不可欠です。特に、粒子径やゼータ電位は、製剤の凝集や沈降、有効成分の放出速度に影響を与え、製品の保存期間や効果に大きく関わります。ELSZneoは、希薄溶液から濃厚溶液まで幅広い濃度範囲で粒子径とゼータ電位を測定し、製剤の安定性評価をサポートします。 【活用シーン】 ・医薬品製剤の開発 ・製剤の品質管理 ・安定性試験 【導入の効果】 ・製剤の品質向上 ・製品の信頼性向上 ・研究開発の効率化

• その他計測・記録・測定器

PCRからキャピラリー電気泳動までシームレス

『Qsep Ultra』は、プライマー設計から量産まで柔軟に対応できる 遺伝子解析装置です。 PCRとキャピラリー電気泳動が1台となり、2stepで遺伝子解析が可能。 お客様のご要望に合わせて開発を行うこともできます。 また、前処理は簡便で、6サンプル連続測定可能。小型、省スペースといった 特長も備わっております。 【特長】 ■PCRからキャピラリー電気泳動までシームレス ■前処理は簡便 ■6サンプル連続測定可能 ■小型、省スペース(W395×D300×H370mm) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分離装置
• その他 増幅・PCR

簡単な前処理で定性・定量分析! 　陽イオン・陰イオン・有機酸・アミノ酸・金属・糖類などを一台の装置で分析可能

キャピラリ電気泳動システム「Agilent 7100」は、陽イオンや陰イオンなど異なる成分を一台の装置で分析が可能な製品です。 また、微量サンプルで短時間・高分解能な分析が可能です。 【特徴】 ・シンプルな前処理で短時間分析 ・1台で、陽イオン・陰イオン・有機酸、アミノ酸、タンパク質、糖の分析可能 　（金属イオンの価数による分離も可能） ・高価なカラムは使用せず、試薬量も少量なのでランニングコスト削減 ・バッファマニュアルなど豊富なアプリケーションによる優れた技術サポート ・微量サンプルで短時間・高分解能な分析が可能 ・バブルセルキャピラリにより分離能を損なわず3～5倍の高感度化を実現 ・対イオンや夾雑物の影響を受けにくく前処理がほとんど不要 ・高価なカラムや溶剤を使用しないため経済的で環境にも優しい ・Open LAB CDS ChemStation により、日本語対応 ※詳細はお問い合わせ、もしくはPDFをダウンロードしてください。

• 分離装置
• その他理化学機器

使いやすさにこだわった粒径・粒度分布測定装置

『nanoSAQLA(ナノサクラ)』は、光散乱を利用して粒子径を測定する "動的光散乱法"を採用した、粒子径測定（粒子径0.6nm～10μm）装置です。 オートサンプラーなしで、最大5検体の連続測定を実現。各検体の条件を 変えて測定することも可能です。 また、濃厚系から希薄系サンプルまで約1分の高速測定を実現しました。 各セルは独立しているため、コンタミの心配もありません。 【特長】 ■動的光散乱法を採用 ■最大5検体連続測定が可能 ■高速測定 ■コンパクトボディ(装置幅24cm) ■コンタミレス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

動的光散乱法により超微粒子および希薄溶液中の微粒子測定に最適

『DLS-8000 series』は、動的光散乱法を用いた粒子径・粒子径分布 (粒径・粒径分布)測定と静的光散乱法を用いた絶対分子量・慣性半径・ 第二ビリアル係数の測定が可能。 また、液浸セル光学系を採用しているため、微弱散乱のナノオーダー粒子を 高精度に測定できます。 【特長】 ■He-Neレーザー、固体レーザー、ダブルレーザーの仕様が選択可能 ■液浸セル光学系を採用により、微弱散乱のナノオーダー粒子を高精度に測定可能 ■オプションのゲル回転セルと組み合わせてゲル状態の解析が可能 ■セル室を160℃まで温調可能な高温仕様タイプをラインナップ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

高分子の構造変化をリアルタイムに評価

『PP-1000』は、小角光散乱法(SALS)を用いて、高分子やフィルムの構造を リアルタイムに、連続的に評価できる装置です。 光源に可視光を使用している為、小角X線散乱や、小角中性子散乱装置と比べ、 より大きな構造(マイクロメートルオーダー)の評価が可能。 また、偏光板を用いたHv散乱測定からは、光学異方性の評価や結晶構造の 解析ができ、Vv散乱測定からはポリマーブレンドの評価や、配向特性の解析が 行えます。 【特長】 ■散乱角度0.33～45°の測定を最短10msecで測定可能 ■サブミクロン～数百ミクロンの構造を評価 ■専用のセルで溶液サンプルも測定可能 ■Hv散乱、Vv散乱測定をソフト上で簡単に切り替え可能 ■卓上タイプで実験室に設置可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

全30事例！バイオ・医薬品・バイオマテリアル分野のアプリケーションデータを掲載した資料を進呈中

大塚電子は新素材解析のコアテクノロジーである光散乱技術を 幅広い分野に応用した分析機器をご用意しております。 粒子径・ゼータ電位・粒子濃度・分子量・分離分析・マイクロレオロジーの 測定・分析・評価といったアプリケーションを多数掲載した事例集を ダウンロードいただけます。 【分析機器のアプリケーションデータ(抜粋)】 ■エクソソームの粒子径・粒子濃度・ゼータ電位測定 ■細菌から生産された細胞外膜小胞の粒子径、粒子濃度、ゼータ電位評価 ■タンパク質フォールディングの介添え役シャペロニンの粒子径評価 ■超遠心機を用いたタンパク質会合体の分離分析 ■分子量の異なるタンパク質の粒子径評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分析機器・装置

全25事例！食品分野のアプリケーションデータを掲載した資料を進呈中

大塚電子は新素材解析のコアテクノロジーである光散乱技術を 幅広い分野に応用した分析機器をご用意しております。 粒子径・ゼータ電位・粒子濃度・分子量・分離分析・マイクロレオロジーの 測定・分析・評価といったアプリケーションを多数掲載した事例集を ダウンロードいただけます。 【分析機器のアプリケーションデータ(抜粋)】 ■ノンホモ牛乳・低脂肪乳・一般牛乳の粒子径評価 ■牛乳の温度変化による粒子径評価 ■牛乳・豆乳のpHタイトレーション測定による等電点評価 ■無調整豆乳と調整豆乳の粒子径評価 ■缶コーヒーの粒子径評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分析機器・装置

全25事例！高分子・無機粒子などを分析したアプリケーションデータ掲載資料を進呈中

大塚電子は新素材解析のコアテクノロジーである光散乱技術を 幅広い分野に応用した分析機器をご用意しております。 粒子径・ゼータ電位・粒子濃度・分子量・分離分析・マイクロレオロジーの 測定・分析・評価といったアプリケーションを多数掲載した事例集を ダウンロードいただけます。 【分析機器のアプリケーションデータ(抜粋)】 ■導電性高分子(PEDOT/PSS)の特性評価 ■O/Wエマルションの粒子径測定 ■シクロヘキサン中のポリスチレンの温度グラジエント評価 ■粒子径が隣接したサンプルの多角度粒子径測定 ■粒子径が異なるポリスチレンラテックスの粒子個数測定 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分析機器・装置

全30事例！ナノカーボン・界面活性剤・ゲル・平板試料等を分析したアプリケーションデータ掲載資料を進呈中

大塚電子は新素材解析のコアテクノロジーである光散乱技術を 幅広い分野に応用した分析機器をご用意しております。 粒子径・ゼータ電位・粒子濃度・分子量・分離分析・マイクロレオロジーの 測定・分析・評価といったアプリケーションを多数掲載した事例集を ダウンロードいただけます。 【分析機器のアプリケーションデータ(抜粋)】 ■フラーレンの粒子径評価 ■陰イオン界面活性剤によるカーボンナノチューブの分散評価 ■偏光解消動的光散乱法によるカーボンナノチューブの軸比の評価 ■各種分散剤によるカーボンナノチューブの分散評価 ■カーボンナノホーンの開孔処理の評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分析機器・装置

食品の品質と安全性を向上させる、粒子径・ゼータ電位測定システム

食品業界では、製品の品質保持と安全性の確保が最重要課題です。特に、乳化製品においては、乳化粒子の安定性が製品の賞味期限や食感に大きく影響します。乳化が不安定になると、分離や変質が起こり、製品の価値を損なう可能性があります。ELSZneoは、乳化状態を評価するために不可欠な粒子径、ゼータ電位を測定し、乳化安定性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・乳化食品（ドレッシング、マヨネーズ、乳飲料など）の開発 ・食品添加物の影響評価 ・品質管理における乳化状態のモニタリング 【導入の効果】 ・乳化製品の品質向上と安定性の確保 ・製品開発期間の短縮 ・不良品の削減によるコスト削減

• その他計測・記録・測定器

焼結体の品質向上に貢献する、粒子径・ゼータ電位測定システム

セラミックス業界において、焼結性は製品の強度や耐久性を左右する重要な要素です。焼結過程における粒子の挙動を理解し、制御することは、高品質なセラミックス製品を製造するために不可欠です。焼結不良は、製品の欠陥や性能低下につながる可能性があります。ELSZneoは、焼結前の原料の状態を詳細に分析することで、焼結性の最適化を支援します。 【活用シーン】 ・セラミックス原料の粒子径・ゼータ電位測定 ・焼結助剤添加による影響評価 ・焼結条件の最適化 【導入の効果】 ・焼結体の品質向上 ・歩留まりの改善 ・製品開発期間の短縮

• その他計測・記録・測定器

電極材料の品質管理に。粒子径、ゼータ電位、分子量を高精度測定。

電池業界では、電極材料の性能が電池の性能を大きく左右します。特に、電極材料の粒子径やゼータ電位は、電池の充放電効率や耐久性に影響を与える重要な要素です。これらの特性が適切に管理されていない場合、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。ELSZneoは、希薄溶液から濃厚溶液まで幅広い濃度範囲での粒子径・ゼータ電位測定を可能にし、電極材料の品質管理を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・電極材料の研究開発 ・製造工程における品質管理 ・材料の特性評価 【導入の効果】 ・電極材料の特性を詳細に把握 ・電池の性能向上に貢献 ・品質管理の効率化

• その他計測・記録・測定器

希薄系から濃厚系まで、高精度な粒子径・ゼータ電位測定でデバイス性能を向上

電子材料業界では、デバイスの性能を左右する材料の品質管理が重要です。特に、微粒子の分散性や表面特性は、デバイスの動作特性に大きな影響を与えます。不適切な材料特性は、デバイスの歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。ELSZneoは、希薄溶液から濃厚溶液まで幅広い濃度範囲で粒子径・ゼータ電位を測定し、材料の品質評価をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるスラリーの評価 ・ディスプレイ材料の分散性評価 ・電池材料の電極特性評価 【導入の効果】 ・デバイスの品質向上 ・歩留まりの改善 ・製品開発期間の短縮

• その他計測・記録・測定器

希薄から濃厚溶液まで対応。汚染物質の粒子径・ゼータ電位を測定。

環境分析の分野では、水質汚濁や土壌汚染の原因となる汚染物質の特定と、その挙動の理解が不可欠です。特に、微粒子レベルでの汚染物質の分析は、環境リスク評価において重要な役割を果たします。ELSZneoは、希薄溶液から濃厚溶液まで幅広い濃度範囲での粒子径・ゼータ電位測定を可能にし、汚染物質の性状を詳細に把握するための強力なツールとなります。これにより、汚染物質の拡散予測や、効果的な対策立案に貢献します。 【活用シーン】 ・水質汚濁調査における懸濁粒子の分析 ・土壌汚染調査における微粒子の分析 ・排水処理プロセスにおける凝集効果の評価 【導入の効果】 ・汚染物質の迅速な特定と定量化 ・環境リスク評価の精度向上 ・効果的な浄化技術の開発支援

• その他計測・記録・測定器

薬効評価を加速する、使いやすさにこだわった粒径測定装置

医薬品業界では、薬効評価において、有効成分の粒子径や粒子径分布の正確な測定が求められます。特に、製剤の安定性や体内での薬物放出速度を左右する粒子径の管理は、医薬品の品質と効果を保証するために不可欠です。不適切な粒子径は、薬効の低下や副作用のリスクを高める可能性があります。当社の多検体ナノ粒子径測定システムは、最大5検体の連続測定と高速測定により、薬効評価における効率性と信頼性を向上させます。 【活用シーン】 ・医薬品の研究開発 ・製剤の品質管理 ・薬物動態試験 【導入の効果】 ・薬効評価プロセスの効率化 ・製剤開発期間の短縮 ・医薬品の品質向上

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

化粧品の浸透性を左右する粒子径を測定

化粧品業界では、肌への有効成分の浸透性を高めるために、配合成分の粒子径制御が重要です。特に、ナノ粒子化された成分の浸透性は、製品の品質と効果を大きく左右します。適切な粒子径の管理は、製品の効果を最大限に引き出し、顧客満足度を高めるために不可欠です。nanoSAQLAは、光散乱法を用いて0.6nm～10μmの範囲の粒子径を測定し、化粧品成分の粒子径を正確に把握できます。 【活用シーン】 ・化粧品開発における成分の粒子径測定 ・肌への浸透性評価 ・製品の品質管理 【導入の効果】 ・成分の最適な粒子径の特定による製品効果の向上 ・品質管理の効率化 ・顧客満足度の向上

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

食品の品質管理をサポートする、使いやすい粒径・粒度分布測定装置

食品業界の品質管理においては、製品の安定性と安全性を確保するために、原材料や製品の粒子径や粒度分布を正確に測定することが重要です。特に、食品の食感、風味、保存性に関わる粒子径の測定は、品質管理の要となります。不適切な粒子径は、製品の品質劣化のリスクを高める可能性があります。当社の多検体ナノ粒子径測定システムは、光散乱法を採用し、0.6nm～10μmの範囲の粒子径を測定できます。最大5検体の連続測定が可能で、高速測定とコンタミレスを実現し、食品の品質管理を効率的にサポートします。 【活用シーン】 ・食品の品質管理 ・原材料の受入検査 ・製品の品質評価 ・製造工程の管理 【導入の効果】 ・製品の品質向上 ・異物混入リスクの低減 ・製造プロセスの最適化 ・品質管理の効率化

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

塗料の品質管理に貢献する、使いやすい粒度分布測定装置

塗料業界では、製品の耐久性を向上させるために、顔料や添加剤の粒子径と分布の管理が重要です。塗膜の性能は、これらの粒子の均一性によって大きく左右され、不適切な粒子径や分布は、塗膜の剥離やひび割れを引き起こす可能性があります。nanoSAQLAは、光散乱法を用いて0.6nm～10μmの範囲の粒子径を測定し、塗料の品質管理をサポートします。 【活用シーン】 ・塗料製造における品質管理 ・塗料の耐久性評価 ・研究開発における塗料組成の最適化 【導入の効果】 ・塗料の品質向上 ・製品の耐久性向上 ・研究開発の効率化

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

セラミックスの強度評価に貢献する、使いやすい粒度分布測定装置

セラミックス業界では、製品の強度を左右する粒度分布の正確な測定が求められます。特に、焼結体の強度や耐久性は、原料となる粒子のサイズや分布に大きく影響されるため、適切な粒度管理が不可欠です。不適切な粒度分布は、製品の欠陥や性能低下につながる可能性があります。当社の多検体ナノ粒子径測定システムは、最大5検体の連続測定により、効率的な粒度分布測定を実現します。 【活用シーン】 ・セラミックス原料の品質管理 ・焼結体の強度評価 ・製品開発における粒度設計 【導入の効果】 ・粒度分布のばらつきを抑制 ・製品の品質向上 ・開発期間の短縮

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• その他検査機器・装置

電池材料の品質管理と効率化を実現する粒径・粒度分布測定装置

電池業界では、高性能な電池を製造するために、電極材料や電解液などの粒子の特性を正確に把握することが求められます。特に、粒子のサイズや分布は、電池の性能や寿命に大きく影響するため、適切な測定と管理が不可欠です。不適切な粒子径や分布は、電池の容量低下や内部抵抗の増加を引き起こす可能性があります。当社のナノ粒子径測定システムは、電池材料の品質管理をサポートし、製造プロセスの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・電池材料の研究開発 ・製造工程における品質管理 ・材料の受入検査 【導入の効果】 ・電池性能の向上 ・不良品の削減 ・製造コストの削減

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

触媒反応の効率化をサポートする、使いやすい粒径・粒度分布測定装置

触媒業界では、反応効率の向上と品質管理が重要な課題です。触媒の粒子径や分布は、反応速度や選択性に大きく影響するため、正確な測定が求められます。不適切な粒子径や分布は、反応効率の低下や副生成物の増加につながる可能性があります。当社の多検体ナノ粒子径測定システムは、最大5検体の連続測定と高速測定により、触媒反応の研究開発を加速します。 【活用シーン】 ・触媒材料の粒度測定 ・反応前後の触媒粒子の変化測定 ・触媒の品質管理 【導入の効果】 ・反応効率の最適化 ・品質管理の向上 ・研究開発の効率化

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置

1ポイント1秒測定！半導体製造における膜厚測定を革新。

半導体業界では、製品の品質と性能を維持するために、ウェーハ上の薄膜の正確な膜厚測定が不可欠です。特に、微細化が進む中で、膜厚のわずかな差異が製品の歩留まりや性能に大きな影響を与えるため、高精度な測定が求められます。顕微分光膜厚計 OPTM seriesは、1秒/pointの高速測定と、3μmからの微小領域測定を実現し、半導体製造における膜厚測定の課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハの膜厚測定 ・各種フィルムの膜厚測定 ・光学材料のコーティング膜厚測定 【導入の効果】 ・高精度な膜厚測定による歩留まり向上 ・高速測定による生産性の向上 ・非破壊・非接触測定による製品への影響軽減

• 膜厚計

コーティング膜厚測定を1秒で！光学部品の品質管理に貢献

光学部品業界では、製品の性能を左右するコーティング膜の品質管理が重要です。膜厚のわずかな差異が、光学特性に大きな影響を与えるため、高精度な膜厚測定が求められます。非破壊・非接触での測定、高速測定、そして光学定数の正確な解析が、品質管理の効率化に不可欠です。顕微分光膜厚計 OPTM seriesは、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 * 光学レンズ、フィルター、ミラーなどのコーティング膜厚測定 * 多層膜の膜厚と光学定数の測定 * 研究開発におけるコーティング材料の評価 【導入の効果】 * 1秒/pointの高速測定による測定時間の短縮 * 高精度な膜厚測定による製品品質の向上 * 光学定数解析機能による材料評価の効率化

• 膜厚計

1ポイント1秒測定！電子部品の品質管理を加速

電子部品業界の品質管理において、コーティング膜の正確な膜厚測定は、製品の性能と信頼性を確保するために不可欠です。特に、多層膜や微小領域の膜厚測定は、製品の小型化・高性能化に伴い、ますます重要になっています。不適切な膜厚測定は、製品の不良や性能劣化につながる可能性があります。顕微分光膜厚計 OPTM seriesは、高精度な膜厚測定と光学定数解析により、電子部品の品質管理における課題を解決します。 【活用シーン】 * 各種フィルムやウェーハ、光学材料などのコーティング膜の膜厚測定 * 多層膜の膜厚測定 * 微小領域の膜厚測定 【導入の効果】 * 非破壊・非接触での膜厚測定により、製品へのダメージを最小限に抑えます。 * 1秒/pointの高速測定により、検査工程の効率化を実現します。 * 光学定数解析により、膜質の評価を詳細に行うことができます。

• 膜厚計

薄膜の膜厚測定を1秒で！エネルギー分野の品質管理に貢献

エネルギー分野、特に太陽電池や燃料電池などの薄膜関連の研究開発や製造においては、薄膜の膜厚測定が製品の性能を左右する重要な要素となります。膜厚のわずかな違いが、製品の効率や耐久性に大きな影響を与えるため、高精度な膜厚測定が求められます。OPTM seriesは、1秒/pointの高速測定と高精度な絶対反射率測定により、薄膜の品質管理を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・太陽電池の透明電極膜の膜厚測定 ・燃料電池の電解質膜の膜厚測定 ・薄膜コーティングされた光学部品の膜厚測定 ・エネルギーデバイスの多層膜構造の評価 【導入の効果】 ・高速測定による生産性の向上 ・高精度な膜厚測定による品質向上 ・非破壊・非接触測定による製品へのダメージ軽減 ・光学定数解析による詳細な膜質評価

• 膜厚計

包装材のバリア性評価に！1秒測定＆最小3μm測定

包装業界では、製品の品質保持のため、包装材のバリア性の正確な評価が求められます。特に、酸素や水分の透過を防ぐバリアフィルムの膜厚測定は、製品の賞味期限や品質に大きく影響します。膜厚測定の精度が低いと、バリア性能の過剰設計や不足につながり、コスト増、品質劣化のリスクがあります。顕微分光膜厚計 OPTM seriesは、高精度な膜厚測定により、包装材のバリア性評価をサポートします。 【活用シーン】 ・バリアフィルムの膜厚測定 ・多層フィルムの膜厚測定 ・包装材の品質管理 【導入の効果】 ・高精度な膜厚測定による品質向上 ・非破壊・非接触測定による効率化 ・光学定数解析による材料特性の把握

• 膜厚計

ウェーハ基板上の薄膜を「抜け」なく全面測定！

半導体業界では、ウェーハ基板上の薄膜の正確な膜厚測定が、製品の品質管理と歩留まり向上に不可欠です。特に、微細化が進む半導体製造においては、薄膜のわずかな厚さの差異が、デバイスの性能に大きな影響を与えるため、高精度な測定が求められます。ラインスキャン膜厚計は、独自の分光干渉法と高精度膜厚演算処理技術を組み合わせることで、12inchウェーハの面内分布を高速に測定し、課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの製造工程における膜厚測定 ・研究開発における薄膜特性評価 ・品質管理における膜厚の均一性評価 【導入の効果】 ・ウェーハの面内膜厚分布を可視化し、製造プロセスの最適化に貢献 ・不良品の早期発見による歩留まり向上 ・研究開発におけるデータ取得の効率化

• 膜厚計

ラインスキャン方式でディスプレイの膜厚を均一に測定！

ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する薄膜の均一性が重要です。特に、色ムラや輝度ムラを防ぐためには、薄膜の膜厚を正確に測定し、均一性を確保する必要があります。不均一な膜厚は、表示品質の低下につながる可能性があります。当社のラインスキャン膜厚計は、ラインスキャン方式を採用し、ウェーハ基板上の薄膜を全面測定することで、膜厚の均一性を評価できます。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造における薄膜の膜厚測定 ・色ムラ、輝度ムラの改善 ・品質管理 【導入の効果】 ・膜厚の均一性評価による品質向上 ・不良品の削減 ・製造プロセスの最適化

• 膜厚計

食品中の異物分析を迅速に！定性・定量分析を一台で。

キャピラリ電気泳動システム Agilent 7100は、陽イオン、陰イオン、有機酸、アミノ酸、金属、糖類など、様々な成分を一台で分析できます。 微量サンプルで短時間・高分解能な分析が可能であり、食品の品質管理を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・食品中の有機酸などの検出 ・品質管理部門での迅速な分析 【導入の効果】 ・多種多様な成分の一括分析による効率化 ・微量サンプルでの分析によるコスト削減

• 分離装置
• その他理化学機器

nmオーダーの透明な異物・欠陥を評価。フィルム表面を可視化・定量化。

材料科学分野では、材料の構造評価において、微細な欠陥や異物の検出が製品の品質を左右する重要な要素となります。特に、透明フィルムなどの表面構造は、目視での検査が難しく、従来の測定方法では詳細な情報を得ることが困難でした。MINUKは、nmオーダーの形状情報を非接触・非破壊で取得し、透明フィルム表面の傷や欠陥の断面形状や三次元形状を可視化し数値化することで、材料の構造評価における課題を解決します。 【活用シーン】 * 透明フィルムの表面評価 * 微小な異物や欠陥の検出 * 材料の構造解析 【導入の効果】 * 非破壊検査によるサンプルへの影響を最小限に * 高速測定による効率的な検査 * 詳細な形状情報の取得による品質管理の向上

• 光学顕微鏡

陽イオン・陰イオンなど、多様な成分を一台で分析！

化学業界における分析業務では、迅速かつ正確な成分分析が求められます。特に、研究開発や品質管理においては、多様な成分を高精度に分析し、その結果を迅速に得る必要があります。従来の分析手法では、複数の装置が必要になったり、分析に時間がかかるという課題がありました。Agilent 7100 キャピラリ電気泳動システムは、陽イオン、陰イオン、有機酸、アミノ酸、金属、糖類など、多様な成分を一台で分析できるため、分析業務の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・研究開発における成分分析 ・品質管理における製品の品質評価 ・環境分析における汚染物質の検出 【導入の効果】 ・一台で多様な成分を分析可能 ・微量サンプルで高感度分析 ・ランニングコストの削減

• 分離装置
• その他理化学機器

ゼータ電位測定でCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価

CMPプロセスにおいては、ウェーハ表面の清浄度維持が製品の品質を左右する重要な要素です。CMPスラリーとウェーハ間の静電的な相互作用を理解し、最適化することは、パーティクルの再付着を防ぎ、高い洗浄効果を得るために不可欠です。当社の固体表面のゼータ電位測定は、CMPスラリーとウェーハのゼータ電位を測定し、静電相互作用を評価することで、これらの課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・CMPスラリーとウェーハの静電相互作用評価 ・洗浄条件の最適化 ・パーティクル再付着防止 【導入の効果】 ・CMPプロセスの効率化 ・ウェーハ表面の清浄度向上 ・製品の品質向上

• 分析機器・装置

希薄から濃厚溶液まで、インクの顔料分散を精密測定

インク業界では、製品の品質を左右する顔料の分散状態の評価が重要です。顔料が均一に分散されていない場合、インクの着色性や安定性が損なわれ、製品の品質低下につながります。ELSZneoは、希薄から濃厚溶液まで幅広い濃度範囲で粒子径とゼータ電位を測定し、顔料分散の状態を詳細に評価できます。これにより、インクの品質管理や開発プロセスの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・インクの製造工程における品質管理 ・顔料分散剤の最適化 ・インクの長期安定性の評価 【導入の効果】 ・インクの品質向上 ・不良品の削減 ・開発期間の短縮

• インクジェットプリンター

インクの発色を最適化する、使いやすさにこだわった粒径測定装置

インク業界では、製品の発色品質を一定に保つために、インク中の顔料粒子のサイズと分布の管理が重要です。発色の均一性や色の再現性は、粒子の状態に大きく影響されます。粒子の凝集や沈降は、発色不良の原因となり、製品の品質を低下させる可能性があります。nanoSAQLAは、インクの発色品質を左右する粒子径を精密に測定し、発色品質の安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・インク製造における品質管理 ・インクの色再現性の評価 ・インクの安定性評価 【導入の効果】 ・発色品質の向上 ・品質管理の効率化 ・不良品率の低減

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置
• インク・トナー

電子材料の性能向上に貢献する、使いやすい粒径・粒度分布測定装置

電子材料業界では、製品の性能を最大限に引き出すために、材料の粒子径制御が重要です。特に、ナノ粒子を含む材料においては、粒子径の均一性が製品の品質を左右します。不適切な粒子径分布は、材料の特性劣化や性能低下につながる可能性があります。当社の多検体ナノ粒子径測定システムは、光散乱法を採用し、0.6nm～10μmの範囲で粒子径を測定できます。最大5検体の連続測定が可能で、電子材料の品質管理と性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体材料の研究開発 ・ディスプレイ材料の品質管理 ・電池材料の性能評価 【導入の効果】 ・材料の特性評価の効率化 ・製品の品質向上 ・研究開発の加速

• その他理化学機器
• その他検査機器・装置
• 化粧品素材、原材料

1ポイント1秒測定！材料の特性評価を加速する顕微分光膜厚計

材料科学分野では、新しい材料の開発や既存材料の性能評価において、膜厚や光学特性の正確な測定が不可欠です。特に、薄膜や多層膜の特性評価は、材料の機能性を理解し、製品の品質を向上させる上で重要な要素となります。従来の測定方法では、測定に時間がかかったり、測定精度に課題があったりすることがありました。顕微分光膜厚計 OPTM seriesは、1秒/pointの高速測定と高精度な光学定数解析により、材料の特性評価における課題を解決します。 【活用シーン】 ・各種フィルム、ウェーハ、光学材料などのコーティング膜の膜厚測定 ・多層膜の膜厚測定と光学定数解析 ・研究開発における材料の特性評価 【導入の効果】 ・高速測定による研究開発の効率化 ・高精度な測定による材料特性の正確な把握 ・非破壊・非接触測定による材料への影響軽減

• 膜厚計
• 材料評価試験

CMPスラリーの分散状態を制御し、研磨効率を向上。

半導体業界では、CMP（Chemical Mechanical Polishing）工程における研磨効率の向上が求められています。ウェハ表面の平坦性を高め、高品質な半導体デバイスを製造するためには、研磨スラリーの粒子分散状態を適切に制御することが不可欠です。粒子の凝集や偏りは、研磨ムラやスクラッチの原因となり、歩留まりを低下させる可能性があります。本製品は、CMPスラリーに非イオン性界面活性剤を添加し、添加前後のゼータ電位および粒子径を測定することで、スラリーの分散状態を評価し、研磨効率の最適化に貢献します。 【活用シーン】 ・CMP工程におけるスラリーの品質管理 ・研磨条件の最適化 ・新素材スラリーの開発 【導入の効果】 ・研磨ムラやスクラッチの低減 ・ウェハの歩留まり向上 ・研磨時間の短縮

• その他理化学機器
• 分析機器・装置
• 半導体・IC

ディスプレイ製造における膜厚測定の課題を解決！

ディスプレイ業界では、製品の品質を左右する膜厚の均一性が重要です。特に、薄膜の均一性は、表示性能や耐久性に大きく影響します。膜厚測定の際に、「測りたい“その場”ですぐに測れない」「人によってバラつく測定結果」「測定精度が悪い」といった課題を抱えている企業も少なくありません。SM-100 seriesは、これらの課題を解決し、高品質なディスプレイ製造をサポートします。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造工程における膜厚測定 ・品質管理部門での膜厚検査 ・研究開発部門での薄膜評価 【導入の効果】 ・測定時間の短縮 ・測定結果の安定化 ・品質管理の向上

• 液晶ディスプレイ
• 膜厚計

nmオーダーの透明な異物・欠陥を評価。細胞観察を革新。

創薬業界における細胞観察では、薬剤の効果や細胞への影響を正確に評価するために、細胞の微細構造を詳細に観察することが求められます。特に、薬剤投与後の細胞の変化や、細胞内の異物の有無を正確に把握することが重要です。従来の観察方法では、細胞の深さ方向の情報や、微細な構造を捉えることが難しい場合がありました。光波動場三次元顕微鏡 MINUKは、nmオーダーの形状情報を非接触・非破壊・非侵襲で取得し、細胞表面の傷や欠陥の断面形状や三次元形状を可視化・数値化することで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・細胞培養における細胞の状態観察 ・薬剤投与後の細胞への影響評価 ・細胞内の異物や欠陥の検出 【導入の効果】 ・細胞の微細構造を詳細に可視化 ・細胞観察の精度向上 ・創薬研究の効率化

• 光学顕微鏡

nmオーダーの異物・欠陥を可視化！食品の安全性を向上。

食品業界では、異物混入は製品の品質と安全性を損なう深刻な問題です。消費者の信頼を失い、企業のブランドイメージを低下させるだけでなく、健康被害を引き起こす可能性もあります。目視検査では見逃しがちな微小な異物や欠陥を、迅速かつ正確に検出することが求められています。光波動場三次元顕微鏡 MINUKは、nmオーダーの形状情報を非接触・非破壊で取得し、食品の安全性を確保します。 【活用シーン】 ・食品包装フィルムの異物・欠陥検査 ・食品内部の異物検出 ・食品製造ラインにおける品質管理 【導入の効果】 ・異物混入リスクの低減 ・製品の品質向上 ・顧客からの信頼獲得

• 光学顕微鏡

ラインスキャン方式で、コーティング膜厚を逃さず検査。

コーティング業界では、製品の品質を維持するために、塗膜の厚さ管理が重要です。膜厚の不均一は、製品の性能劣化や外観不良につながる可能性があります。特に、インラインでのフィルム生産においては、膜厚をリアルタイムで正確に測定し、管理することが求められます。ラインスキャン膜厚計は、ラインスキャン方式を採用し、フィルムの膜厚を全幅・全長にわたって測定できます。 【活用シーン】 * フィルム製造ライン * コーティング工程における膜厚管理 * 品質管理部門での検査 【導入の効果】 * 膜厚の均一性を確保 * 不良品の発生を抑制 * 生産効率の向上

• 膜厚計
• コーティング剤

ラインスキャン方式でフィルムの膜厚を均一に測定

フィルム業界では、製品の品質を左右する膜厚の均一性が重要です。特に、光学フィルムや機能性フィルムなど、用途によっては膜厚のわずかな差異が製品の性能に大きな影響を与えることがあります。膜厚の不均一は、製品の強度低下や光学特性の劣化につながる可能性があります。当社のラインスキャン膜厚計は、インラインでのフィルム生産現場においてフィルムの膜厚を全幅・全長測定できる装置です。 【活用シーン】 * 光学フィルムの製造工程 * 機能性フィルムの膜厚測定 * 包装フィルムの品質管理 【導入の効果】 * フィルムの品質向上 * 不良品の削減 * 生産効率の改善

• 膜厚計
• その他フィルム・シート

株式会社彌満和製作所は、2026年10月26日（月）～31日（土）に東京ビッグサイトで 開催される「JIMTOF2026　第33回 日本国際工作機械見本市」に出展いたします。 ご好評をいただいております、マシニングに最適化した究極のプロツール 「Z-PRO」の新商品2点を公開予定！ この機会をお見逃しなく、当社ブースへ是非ともお越しください。 【見どころ】 「Z-PRO」ブランドの新商品を2点展示します タッピングのトラブルを解決！ショート動画を多数ご用意 タッピングにおける失敗例と成功例を徹底解説します 精密タッピングマシン　『TTTsystem』を使った実演加工あり

[講　師] NTTドコモビジネス株式会社 エバンジェリスト 国際大学GLOCOM 客員研究員 林 雅之 氏 [重点講義内容] 生成AIからAIエージェント、フィジカルAIへと活用領域が拡大し、AIインフラの主戦場は学習中心から推論中心へと移行しつつあります。AI需要の急拡大を背景に、多様な事業者によるAIデータセンターへの投資や参入が加速する一方、電力・冷却需要の増大、データ主権への対応、GX戦略地域制度を活用したデータセンター集積などが新たな課題となっています。 本講演では、AIデータセンター市場の最新動向と投資トレンドを概観するとともに、GPU、液冷、オール光ネットワークなどの技術革新、政策・制度動向、産業課題を整理します。さらに、AIファクトリー、データセンター、エッジを連携する分散型AI基盤の将来像を展望し、ワット・ビット連携による新たな産業基盤と今後の競争軸について考察します。

[講　師] 株式会社日本総合研究所 リサーチ・コンサルティング部門 環境・エネルギー・資源戦略グループ シニアマネジャー 早矢仕 廉太郎 氏 [講演項目] １．データセンターの概観 ２．データセンターが電力業界へ与えるインパクト ３．データセンター×電力の政策動向 　（１）GX2040ビジョン 　（２）ワット・ビット連携官民懇談会 　（３）GX産業立地WG 　（４）日本成長戦略 ４．将来のデータセンター整備に向けた電力調達の在り方 ５．質疑応答／名刺交換

今年も、ナイス主催の大型展示会「木と暮らしの博覧会」を開催いたします！ 国内約150社もの住設建材メーカーが一堂に会し、最新設備や注目の新商品をご紹介いたします。 また、業界の最新動向や今後の見通しを学べる専門セミナーも多数開催！ ビジネスのヒントや新提案の種が詰まった2日間です。 皆さまのお越しを、心よりお待ち申し上げております。 ■会期：2026年10月15日（木）10：00-17：00 　　　　2026年10月16日（金）10：00-16：00 ■会場：パシフィコ横浜　ホールC・D ■主催：ナイス(株)、（一社）木と住まい研究協会、（一社）ステキ信頼リフォーム推進協会 ■公式サイト：https://woodlivingfair.jp/ ■事前登録：https://www.tenjikai-uketsuke.com/form/wood-living-expo-2026/ ※ご来場の際には、事前登録が必要です。事前登録の際、ナイス担当部署は「R&Dセンター」をご選択ください。

貴社におかれましては益々ご盛栄のこととお慶び申し上げます。 弊社は以下の展示会に出展し、多数の製品をご紹介させていただきます。 ご多忙中のところ大変恐縮でございますが、 この機会に是非ともご来場いただきたくご案内申し上げます。 【 展示会名 】 第32回 計量計測展 INTERMEASURE 2026 公式サイト ： https://intermeasure.org/itms2026/ 【 会 期 】 2026年9月 16日（水）～ 18日（金）10:00～17:00 【 会 場 】 東京ビッグサイト（東京国際会議場）東１ホール （ブース番号：I - 03 ） 9月18日（金）13：45頃より東１ホール・セミナー会場「IM1」において、 産業技術総合研究所（産総研）様が当社との共同研究成果の発表を行います。 当社からも説明員が登壇いたします。 ぜひ、ご聴講賜りますようお願い申し上げます。