ウェーハ基板上の薄膜を「抜け」なく全面測定！
半導体業界では、ウェーハ基板上の薄膜の正確な膜厚測定が、製品の品質管理と歩留まり向上に不可欠です。特に、微細化が進む半導体製造においては、薄膜のわずかな厚さの差異が、デバイスの性能に大きな影響を与えるため、高精度な測定が求められます。ラインスキャン膜厚計は、独自の分光干渉法と高精度膜厚演算処理技術を組み合わせることで、12inchウェーハの面内分布を高速に測定し、課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの製造工程における膜厚測定 ・研究開発における薄膜特性評価 ・品質管理における膜厚の均一性評価 【導入の効果】 ・ウェーハの面内膜厚分布を可視化し、製造プロセスの最適化に貢献 ・不良品の早期発見による歩留まり向上 ・研究開発におけるデータ取得の効率化
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基本情報
【特長】 ・ラインスキャン方式による全面測定 ・12inchウェーハ対応 ・高速測定 ・膜厚範囲：0.1～300 μm ・測定幅：最大300 mm 【当社の強み】 大塚電子は、独自の｢光｣技術を用いて、お客様の課題解決に貢献します。創業以来培ってきた要素技術を融合させ、お客様のニーズに応じた製品を提供します。
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企業情報
大塚電子は、独自の｢光｣技術を用いて、大塚電子にしか出来ない画期的な新製品を作り出しています。 創業以来積み上げてきた要素技術を融合させながら、医用機器、分析機器、分光計測機器という3つの事業を展開しています。 【医用機器】 親会社である大塚製薬をはじめ、試薬メーカーなどと連携した、臨床検査機器、医療機器の開発・生産を主体とする事業を展開。最新テクノロジーを集結し、人々の健康に貢献しています。 【分析機器】 新素材解析のコアテクノロジーである光散乱の技術を、ナノテクノロジー領域の物性測定に応用。粒子径、ゼータ電位、分子量の測定法を基準に、新素材、バイオサイエンス、高分子化学、さらには半導体や医薬分野などへの展開を図ります。 【分光計測機器】 分光計測技術の代名詞であるマルチチャンネル分光器と、長年にわたって培ってきた解析技術の蓄積による製品群を生み出しています。多様化するニーズに応えながら、幅広い分野へと拡大し続けています。
