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平坦度を1 nmの精度で計測可能|ウエハ厚分布測定器

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TMS-2000

最終更新日:2026年04月10日

santec Holdings株式会社
santec Holdings株式会社
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非接触で平坦度を1nmのくり返し精度で計測可能!

『TMS-2000』は、革新的なハードウェア設計と環境変化にも 高い耐性を有する超高精度ウエハ厚分布測定器です。 シリコン(~P++)、SiC、サファイア、ガラス、LiNb3、SOIなどの 様々なウエハ材料のインライン検査を含め、高スループットと コンパクトなサイズを活かした幅広いアプリケーションへの 導入が可能です。 高速と高密度計測を両立したスパイラルスキャン方式を採用。 小型で配置場所を選ばない省スペース設計となっています。 【特長】 ■環境温度変化や振動に対する高い耐性に基づいた安定した厚さ計測 ■サブナノメートルのくり返し測定精度 ■自由度の高いスキャン方式でウエハ面内の厚さ分布を測定 ■片面からの光照射でジグなどに張り付けたままでも計測可能 ■異なる複数のウエハで差分解析が可能 ■SEMI規格に準拠した評価パラメータが測定可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

    その他電子計測器
?TMS-2000

平坦度を1 nmの精度で計測可能|ウエハ厚分布測定器

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基本情報

【その他の特長】 ■高ドープSiや多層ウエハ、パワーデバイス材料も対応可能 ■光ヘテロダイン干渉方式による高精度計測(くり返し測定精度1nm以下) ■高い耐環境性(santec独自の特許出願技術を採用) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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用途/実績例

【計測機能】 ■厚さ分布計測 ・専用の計測・解析アプリケーションが付属 ・直観的な操作で計測、解析、データ出力まで一貫して実行可能 ■平坦度測定 ・SEMI規格に準拠した平坦度測定(グローバル、サイト、エッジ)が可能 ・グラフィカルな統計処理結果の表示や出力も可能 ■残差分析 ・ゼルニケ多項式近似を用いた分析も可能 ・面内サグや表面スクラッチ傷の検査に活用可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ウエハ厚分布測定器『TMS-2000』

ウエハ厚分布測定器『TMS-2000』

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santecは光産業において40年以上にわたり、お客様からの品質に対する厳格な要求にお応えしながら、光コンポーネント、レーザー製品及び光測定器を製造してまいりました。 また、常に革新を求め、お客様からの御要望にお応えすることを通じて、santecは、数々の新しい光関連製品を世に送りだしてまいりました。私共の経営理念である光の理想郷「OPTOPIA」の創造への歩みは、製品のコンセプトから商用化までのタイムスケジュールを最小限にする歩みでもあります。

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