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【半導体成膜向け】真空チャンバー

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最終更新日:2026年04月20日

東洋ステンレス化工株式会社
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ステンレス加工・溶接技術を活かした真空チャンバー

半導体業界の成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、真空環境の維持が不可欠です。真空チャンバーのリークや不純物の混入は、成膜の品質を著しく低下させる可能性があります。当社真空チャンバーは、高い気密性と清浄度を追求し、安定した成膜プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・PVD、CVD、ALDなどの成膜プロセス ・スパッタリング、蒸着などの真空プロセス 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成の実現 ・歩留まり向上 ・プロセスの安定化

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toyo

【半導体成膜向け】真空チャンバー

toyo ステンレス 2 真空.PNG
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【特長】 ・円筒型、角型、多角形型、フルジャケットタイプなど、多様な形状に対応 ・リークテストによる高い気密性の確保 ・ヘリウムリークディレクタによる微小なリークの検出 ・ステンレス加工・溶接技術による高品質な製品 ・真空機器ラインアップの提供 【当社の強み】 長年の経験と実績で培った加工・溶接技術を活かし、高品質な真空チャンバーを提供しています。製造からリークテストまで一貫して自社工場で行い、お客様の多様なニーズに応じた製品をご提供します。

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長年の経験と実績で培ってきた加工や溶接の技術を生かし、ケミカル分野・ 産業プラント分野・建築分野などでステンレス加工品を納めてまいりました。 主にJIS・ANSI規格等対応のステンレス製フランジ、クランプ継手、ねじ込み継手、 バーリング加工や裏波溶接などの技術を生かした加工品などを製造致します。 また真空チャンバーにおいては、製造からリークテストまで一貫して弊社工場内で行われ、 ユーザー様から高評価をいただいております。 多種多様なご要望に応じた付加価値の高い製品をご提供致します。

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