写真印刷技術の一種！マスクに描かれた電子回路のパターンをレジスト膜に転写
当社の技術「リソグラフィプロセス」について、ご紹介いたします。 ひと言で言うならばフォトリソグラフィは写真印刷技術の一種。 マスクに描かれた電子回路のパターンをレジスト膜に転写するのが フォトリソグラフィの目的です。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問合せください。 【工程(一部)】 ■ウェーハ準備 ■脱水ベーク ■レジスト塗布 ■プリベーク ■露光 ■露光後ベーク(PEB) ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【その他の工程】 ■現像 ■ポストベーク ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピンコータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。
