「レジストの密着性を良くする」と言われるHMDS処理をご紹介！
当社の提供する「表面処理技術」について、ご紹介いたします。 疎水化表面処理は、HMDS処理ともいい、ウェーハ表面を疎水性に するための処理で、レジストの現像液が水溶液である場合 (ポジ型レジストを使う場合など)に必須の処理です。 HMDSとはヘキサメチルジシラザンの略称で、これは Siウェーハ表面にメチル基(―CH3)を結合させる物質です。 【特長】 ■ウェーハ表面を疎水性にするための処理 ■ウェーハ表面を疎水化して現像液の浸入を防ぐ ■レジストの密着性を良くする ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピンコータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。
