表裏面のパターンの中心ズレや微小線幅を高精度自動測定！検査精度向上を実現する両面パターンズレ検査機。
当社では、ワーク表裏面のパターンズレ測定や線幅測定、顕微鏡観察を目的とした「両面パターンズレ検査機」を取り扱っております。 表裏面の同一座標にオートフォーカス機能でピントを自動調整し、パターン検出後にマッチングを実施。表裏面のパターンの中心ズレや微小線幅を高精度に自動測定します。ダブルポート化オプションにより、赤外カメラを搭載することで可視検査機能に追加して複合ワークの赤外検査が可能です。 【特長】 ■高精度の測定性能（表裏面のズレ測定分解能0.1μm） ■ダブルポート化オプションによる赤外検査が可能 ■自社設計の電動レポルバを搭載 ■自社設計のXYθフラットステージユニット搭載 ■レシピ管理による自動測定が可能 ■ご要望に応じたカスタマイズが可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【主な仕様】 ■表裏面のズレ測定分解能：0.1μm（※10倍測定時） ■線幅測定：±0.1μm（※10倍測定時） ■繰り返し再現性：±0.5μm（※10倍測定時） ■電動レポルバ：分解能1μm、対物レンズ切替時の位置決め精度±2μm ■XYθフラットステージユニット：XYストローク200mm、θストローク±5度 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■ワーク表裏面のパターンズレ測定 ■線幅測定 ■顕微鏡観察 ■複合ワークの赤外検査 ■表裏面パターンズレ測定（X, Y, θ） ■同一面パターンズレ測定（X, Y, θ） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
弊社は1986年の会社創設以来、長らく日本の最先端の技術を支える半導体付帯事業を展開してまいりました。ハード面 ではクリーンルームをはじめとする、工事製造環境の整備。また、人的要素では半導体技術者の育成ならびにお客様のニーズに即応できるサービス体制の確立に主眼をおいてまいりました。そして昨年は、SEMICON Japanに初出展を果たし多くの 業界関係者と直接触れ合うことで、今何を必要とされているのか、いかなるサービスを創出すべきなのかを改めて学ぶことができました。また、同時に社内の志気も高まっきており積極的な営業活動を実施しております。日本経済の景気もようやく上昇志向となってきたと言われております。しかし、半導体業界だけを見ても海外メーカーの進出、技術力、サービスの向上は著しいものとなっておりますので国際競争力を高めることを念頭に営業展開をしていきたいと考えております。国内はもとより、グローバル化時代に対応して北米とアジアを結ぶ拠点として我が日本そして、空港アクセスに優れている当社の担う役割はさらに高まっていきます。
