世界で初めて最小画素1μm(オプション:0.5um対応可能)の自由度の高いパターニングを実現!DMDを用いたマスクレス露光装置
D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。 本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD(Digital Micromirror Device)に転送されたグレースケール信号をピクセル(□1μm)単位で光強度に階調を持たせた2次元画像として逐次投影することのできるハードウエアから構成されています。 DL-1000を用いることで、マルチトーンマスクを使用したり多重露光をすること無く、レジストの三次元加工を容易に実現することができます。グレースケールデータの作成は、これまで階層毎に図面を描き、各レイヤーに輝度を割り当てる作業が必要でしたが、計算式の係数を変化させることで任意の多角形及び円弧をもとに滑らかなグレースケール画像(最大256階調)を生成することが可能になりました。 また、レジストの感度特性や処理条件の相違による露光結果の変動に対しても、グレースケールデータを容易に変更することができるため、求める形状を迅速に具現化することができます。
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基本情報
D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。 本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD(Digital Micromirror Device)に転送されたグレースケール信号をピクセル(□1μm)単位で光強度に階調を持たせた2次元画像として逐次投影することのできるハードウエアから構成されています。 DL-1000を用いることで、マルチトーンマスクを使用したり多重露光をすること無く、レジストの三次元加工を容易に実現することができます。グレースケールデータの作成は、これまで階層毎に図面を描き、各レイヤーに輝度を割り当てる作業が必要でしたが、計算式の係数を変化させることで任意の多角形及び円弧をもとに滑らかなグレースケール画像(最大256階調)を生成することが可能になりました。 また、レジストの感度特性や処理条件の相違による露光結果の変動に対しても、グレースケールデータを容易に変更することができるため、求める形状を迅速に具現化することができます。
価格情報
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納期
用途/実績例
■最小画素1μm(オプションにて0.5um対応可能)で自由度の高いパターニングが可能 ■405nmのLEDを光源に採用(オプションに高出力LD対応)、優れたメンテナンス性を実現 ■薄い透明基板にも対応する独自のオートフォーカス技術 ■様々な厚さ(サブμm〜100μm以上)の多様なレジストに対応 ■グレースケール画像の投影でレジストの三次元加工が可能 ■1回の露光で最適条件が決まるテスト露光モード搭載 ■TTLアライメントと画像処理による高精度重ね合わせ ■露光パターンと下地パターンの同時観察機能 ■CADフォーマットはDXF、GDSIIに対応 ■光学倍率やステージストロークの変更も柔軟に対応 ■MEMS/マイクロ・ナノメカトロニクス ■ナノエレクトロニクス/カーボンナノチューブ/グラフェン ■微小流体デバイス/マイクロTAS/細胞 ■磁気デバイス/スピントロニクス ■光学部品/機能性フイルム ■薄膜/ダイヤモンド電極 ■半導体/化合物半導体 ■通信/マイクロ波 ■熱流体工学 ■各種センサ ■低温物理 など
ラインアップ(2)
型番 | 概要 |
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DL-1000 | LED光源仕様で、露光エリア□100mmが標準仕様となります。 |
DL-1000HP | 高出力LD光源を採用しており、LED光源よりも高速に露光が可能です |
カタログ(1)
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独自の光学技術を基幹として、主に半導体市場における種々の検査・測定装置の開発製造を展開し市場形成を確立してきた実績があります。グローバルな視野にたったナノテク、バイオ分野のニーズに合致した新規製品を積極的に市場に送り出して参ります。新規産業や雇用の創出を目指し、日本産業界の新たな発展へ貢献することがNSSの責務です。