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TMS-401

最終更新日:2010年10月01日

株式会社トービ
株式会社トービ
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洗浄、現像、エッチング等カスタマイズ可能な、低価格多目的処理装置

研究・開発に最適なコンパクトサイズの卓上型多目的処理装置です。 【特長】 ・エッチング、洗浄、現像、剥離、乾燥など用途に合わせてカスタマイズ可能。 ・PVCボディー素材で酸、溶剤に対応。 ・卓上型なので場所を取らず、低価格にてご提供可能。 【仕様】 ワークサイズ:Φ8インチ、もしくは200×200まで クリーンユニット:HEPAフィルター 洗浄方式:スピン洗浄+ブラシ又はMS選択 回転数範囲:100〜2,000rpm 回転数設定:ボリューム設定 耐酸アルカリ仕様:耐酸、アルカリ用ボディ(PVC)使用 対溶剤仕様:IPA.アセトン等の各種溶剤対応ボディ(SUS)使用 オプション:高圧ジェットノズル、薬液用ノズル、       及びフィルター各種対応ボディ、薬液循環、等 ■その他■卓上スピンコーター、露光装置、剥離装置、真空装置、測定装置      など半導体関連装置を取り扱っています。      ◆◇詳細はカタログダウンロードから◇◆

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多目的処理装置(スピンプロセッサー)

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基本情報

研究・開発に最適なコンパクトサイズの卓上型多目的処理装置です。 【特長】 ・エッチング、洗浄、現像、剥離、乾燥など用途に合わせてカスタマイズ可能。 ・PVCボディー素材で酸、溶剤に対応。 ・卓上型なので場所を取らず、低価格にてご提供可能。 【仕様】 ワークサイズ:Φ8インチ、もしくは200×200まで クリーンユニット:HEPAフィルター 洗浄方式:スピン洗浄+ブラシ又はMS選択 回転数範囲:100〜2,000rpm 回転数設定:ボリューム設定 耐酸アルカリ仕様:耐酸、アルカリ用ボディ(PVC)使用 対溶剤仕様:IPA.アセトン等の各種溶剤対応ボディ(SUS)使用 オプション:高圧ジェットノズル、薬液用ノズル、       及びフィルター各種対応ボディ、薬液循環、等 ■その他■卓上スピンコーター、露光装置、剥離装置、真空装置、測定装置      など半導体関連装置を取り扱っています。      ◆◇詳細はカタログダウンロードから◇◆

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エッチング装置、洗浄装置、現像装置卓上スピンコーター、露光装置、剥離装置、真空装置、測定装置、等様々です。

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前工程(フォトリソ関連)装置各種、マニュアル式のスピンコーター(Si、液晶ガラス、化合物 他)など、試験研究用の装置から生産用自動装置各種を設計、製造、販売しております。 [半導体・液晶用試験研究開発、生産関連機器] 各種洗浄機(ウェット、ドライ)、スピンコーター、マスクアライナー、現像・エッチング装置、各種真空装置、プローバー、膜厚測定用ドリラー など

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