高圧アニール装置
LCD用低温ポリシリコンTFT基板や半導体ウェハの素子特性を向上させ、均一化するための装置です。 従来は1300℃で熱酸化させていた工程を、この装置では水蒸気で加圧加熱することにより600℃以下の低温で同じ効果を得ることができます。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
LCD用低温ポリシリコンTFT基板や半導体ウェハの素子特性を向上させ、均一化するための装置です。 従来は1300℃で熱酸化させていた工程を、この装置では水蒸気で加圧加熱することにより600℃以下の低温で同じ効果を得ることができます。
価格情報
-
納期
用途／実績例
●TFT液晶ディスプレイの素子特性の均一化 ●半導体素子の素子特性の向上
企業情報
高圧から真空・高温から低温・高湿から低湿等の環境要素を高度に組み合わせた制御技術を駆使し、開発から製造まで、ソフトウェアからハードウェアまでカバーする多様な人材のもとに、半導体環境試験装置・液晶ディスプレイの製造装置・含浸装置など数々の装置を生み出し世の中に貢献して参りました。 今後とも、ますます多様化・高度化していくテクノロジーに対応し「価値ある存在」であり続けることに誇りと情熱を持って、さらなる飛躍を目指してまいります。