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均一な温度分布が得られる、真空加熱乾燥装置

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VA-888

最終更新日:2010年10月01日

株式会社協真エンジニアリング 本社
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均一な温度分布が得られる、新時代の真空加熱装置

         〜すばらしい温度分布をめざして〜 真空中の温度分布の常識を変えたのはシロッコファン。大気圧下での熱風循環により、温度分布を整えてから真空引き。よりクリーンな環境が要求される場合は、攪拌せずに均一な温度分布が得られるよう、ヒーター配置とバランスを工夫しました。 新時代の『真空加熱装置』です。

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均一な温度分布が得られる、真空加熱乾燥装置

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基本情報

         〜すばらしい温度分布をめざして〜 真空中の温度分布の常識を変えたのはシロッコファン。大気圧下での熱風循環により、温度分布を整えてから真空引き。よりクリーンな環境が要求される場合は、攪拌せずに均一な温度分布が得られるよう、ヒーター配置とバランスを工夫しました。 新時代の『真空加熱装置』です。

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【概要】 ■攪拌加熱 シロッコファンによる熱風循環で温度分布を整えてから真空引き。大量のワークをスピーディーに処理。 ■無攪拌加熱 攪拌せずに槽内の対流により温度分布を整えてから真空引き。発塵を嫌うワークをクリーンに処理。 ■真空加熱 真空引きをした後に、真空中で加熱。厳密なクリーン度が要求されるワークの処理に。 ■ヒーターバランス ブロック毎に設置されたヒーターボリュームで最適な温度分布にチューニングできます。 ■真空PID制御 真空度はPID制御でプログラムの通りになめらかにコントロールでき、ワークの破裂なども防げます。 ※詳細はカタログをダウンロード出来ます。 ※HPリニューアル⇒http://www.kyosin-eng.com

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高圧から真空・高温から低温・高湿から低湿等の環境要素を高度に組み合わせた制御技術を駆使し、開発から製造まで、ソフトウェアからハードウェアまでカバーする多様な人材のもとに、半導体環境試験装置・液晶ディスプレイの製造装置・含浸装置など数々の装置を生み出し世の中に貢献して参りました。 今後とも、ますます多様化・高度化していくテクノロジーに対応し「価値ある存在」であり続けることに誇りと情熱を持って、さらなる飛躍を目指してまいります。

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