CVD装置
●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質（気体、液体、固体）としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。
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基本情報
●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質（気体、液体、固体）としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。
価格情報
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納期
用途／実績例
東京大学 、東京工業大学、（独）物質・材料研究機構 （独）産業技術総合研究所 …他
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企業情報
北野精機の歴史は研究開発用精密機器の提供を通して、 常に最先端の研究分野に貢献し続けてきた軌跡でもあります。 1958年（昭和33年）11月 精密機器の設計・製造・販売会社として設立されて以来、 大学・官公庁の研究所をはじめ民間企業の基礎研究所に 向けた実験機器の開発・製造を手がけ、その優れた品質 と信頼性には高い評価をいただいています。 特に近年、新素材やナノテクノロジー、フラットパネル ディスプレー、高温超電導、太陽電池、原子力、宇宙開発 など産業分野に必要不可欠な超高真空・極低温技術に ついては、他社に先駆けていち早く取り組み、その実験 環境づくりに豊富な技術・ノウハウを蓄積し、高度な性能・ 機能を凝縮した機器の開発・提供に結び付けています。 北野精機では、つねにユーザーである研究者の方々と 密接に連携し、研究・開発目的を的確にサポートする 機器を設計・開発。 部品づくりから各種処理、組立、検査・テスト、装置立ち 上げ、アフターサポートまでの一貫した体制で、高品質 の製品と良質な研究開発の実験環境を提供しています。